非油炸红薯脆片生产工艺研究

以红薯为主要原料,辅以面粉、淀粉、油等配料,制作出风味、品质俱佳的红薯脆片。探讨了红薯的含水量、不同的原料配比、脆片厚度、焙烤温度等工艺参数对产品品质的影响,为红薯休闲产品的开发和生产提供参考。      

UPLC-Q-TOF-MS法筛查牛乳中48种兽药残留

利用超高效液相色谱-四极杆飞行时间质谱技术建立了生鲜牛乳中48种兽药残留的快速筛查方法.采用含0.2％甲酸的乙腈溶液作溶剂,Oasis PRIME HLB固相萃取载体作吸附剂,实现牛乳样品中48种目标物的同时提取和有效净化.目标药物经ACQUITY UPLC HSS T3 (21 mm×50 mm,1.8μm)色谱柱分...     

GC-MSD法测定纺织品中含氯苯酚残留量

采用气相色谱-质谱联用法（GC-MSD），测定及确证纺织品中含氯苯酚残留量。用碳酸钾溶液提取试样，提取液经乙酸酐乙酰化后以正己烷提取，用配有质量选择检测器的气相色谱仪，采用选择离子检测进行确证，外标法定量。五氯苯酚和四氯苯酚添加水平在0．05～2．00mg／kg时，该方法平均回收率为88．8％～97．3％，精密度为2．41％～6．74％，方法测定低限为0．05mg／kg，各项指标均满足有关要求。     

大豆皮胶态微晶纤维素的流变学性质研究

研究了浓度、剪切速率、剪切时间、静置时间、温度、金属离子等对大豆皮胶态微晶纤维素溶液粘度的影响。结果表明:大豆皮胶态MCC在水中可形成凝胶,低浓度的凝胶(小于2%)具有触变性;大豆皮胶态MCC溶液具有典型的剪切稀变性、良好的时变性和热稳定性;二价金属离子会使大豆皮胶态MCC溶液的粘度显著下降,当其浓度达到0.15mol/L或以上时,其假塑性会降低。      

曲柄式渐开线行星齿轮传动的优化设计

本文以传动体积最小为目标，对曲柄式渐开线行星齿轮传动的传动比做最优化分配；以该传动中少齿差内齿轮副的啮合效率最高为目标，对内齿轮副的几何参数进行优化设计。     

挤压参数对玉米-小麦混合粉挤压特性的影响

以玉米-小麦混合粉为原料,用正交设计方法进行挤压试验,研究了两种配比的混合物料在挤压过程中的挤压特性。单指标评价表明,对产品容重影响的顺序是:水分含量、物料配比、加热温度和螺杆转速及模口形状;进一步用主成分分析方法对指标向量进行综合评价发现,影响顺序为:加热温度、水分含量、模口形状、螺杆转速及物料配比。用主成分分析的方法得到较好的试验条件为:温度160℃、水分含量20%、圆形模口、螺杆转速245r/min及物料配比1:1。     

智能遗传算法的算子改进及其性能研究

由于遗传欺骗问题:遗传算法在进化过程中有时会产生一些超常的个体,这些个体因竞争力太突出而控制了选择运算过程,从而影响算法的全局优化性能,导致算法获得某个局部最优解。鉴于此现提出改进遗传算子的一种方法:基于最佳个体保存的轮盘赌选择算子,并通过实例验证了该方法优越的收敛性能。     

纺织品中多种拟除虫菊酯残留量测定方法

提供了2种测定及确证纺织品及其材料中12种拟除虫菊酯残留量的方法，即用配有电子俘获检测器的气相色谱仪（GC—ECD）测定，或用气相色谱-质谱（GC-MS）测定，可供具备不同条件的实验室参考使用。试样经丙酮-正己烷（1＋4）超声波提取，提取液浓缩定容后，用上述2种方法进行检测。方法的回收率、精密度、测定低限等各项技术指标均能满足检测需要。     

基于几何校正与非下采样Shearlet变换的图像水印算法

为了解决当前图像水印技术难以抵御几何失真,使其鲁棒性较低与误检率较高的问题,提出了几何校正与非下采样Shearlet变换的图像水印算法.首先,引入Cat映射,对水印信息图像进行置乱;随后,借助非下采样Shearlet变换机制,对载体图像进行处理,获取低通子带和高通子带,并将低通子带分割为尺寸相同的小块;通过修改低通子带的Shearlet系数,建立水印嵌入机制,将水印信息植入到载体图像中,获取水印密文;构建几何失真图像训练样本,基于极谐变换,计算水印图像的极谐变换系数模,充分描述其鲁棒特征;基于模糊支持向量机,预测几何失真参数,对水印图像进行几何校正;最后,再次利用非下采样Shearlet变换处理校正水印图像,获取低通子带小块,设计水印提取方法,复原其水印信息.实验结果显示：与当前图像水印算法相比,所提算法具有更高的不可感知能力与鲁棒性,对于各种几何攻击,所提取技术的复原水印与初始水印的相关系数均要高于0.95.     

MAX相Ti3SiC2高导电涂层的研究进展

钛硅碳(Ti3 SiC2,TSC)是一种兼具金属材料和陶瓷材料优异性能的新型三元化合物MAX相.Ti3 SiC2作为高导电功能涂层具有很大的应用潜力,近年来受到越来越多的关注.Ti3 SiC2涂层的制备技术在不断改革优化,主要有五种常见制备工艺,分别是化学气相沉积法(CVD)、物理气相沉积法(PVD)、固相反应合成法(Solid-state reaction)、气溶胶沉积法(ADM)和热喷涂法(Thermal spraying).Ti3 SiC2涂层的性能在很大程度上与其纯度相关,通常制得的Ti3 SiC2涂层均含有一定程度的杂质,这是制约其广泛应用的一个重要因素.Ti3 SiC2涂层中经常出现的杂质主要是TiC、Ti5 Si3、SiC、TiSi2等,不同的制备方法产生的杂质种类也不一样.为了提高Ti3 SiC2涂层的纯度,需要对其制备工艺进行探索和优化.目前,反应化学气相沉积(RCVD)实现了通过消耗碳化硅(SiC)子层在石墨基底上生长纯Ti3 SiC2涂层.近年来利用ADM也实现了在室温下合成纯Ti3SiC2涂层,这一技术降低了常规Ti3SiC2涂层的合成温度.此外,PVD法不仅为低温制备Ti3SiC2涂层提供了可能性,还实现了Ti-Si-C复合涂层的工业化生产.本文综述了Ti3 SiC2涂层的研究现状,分析了Ti3 SiC2涂层独特的晶体结构及优异性能,介绍了近年来几种常见的Ti3 SiC2涂层制备技术,并指出了目前合成纯Ti3 SiC2涂层所面临的巨大挑战.