有机电致发光薄膜器件的研究

有机电致发光薄膜具有制备方便,驱动电压低,发光亮度高,可以与聚合物基底匹配等优点,成为目前世界显示技术的一大研究热点。论述了有机发光薄膜器件的结构、工作机理及其薄膜电致,光致发光的特性,论述了薄膜发光器件的电学特性与光学特性及其器件在脉冲电压波形驱动下的电光特性,提出了应用于显示技术的有机电致发光薄膜器件的电学于光学特性的优化方法。     

光学薄膜在波分复用系统中的应用

简要介绍了波分复用原理和光学薄膜在波分复用技术中的应用.并给出了几个应用例子.     

一维光子晶体及其应用

介绍一维光子晶体的概念和基本原理,并以Na3AlF6/ZnSe膜系为例介绍了国内外在一维光子晶体制备和特性测试上所取得的进展,最后着重阐述一维光子晶体在实际应用中的最新成果。     

电致变色氧化钨薄膜的干法锂化研究

采用电子束加热蒸发金属Ｌｉ对ＷＯ３电致变色薄膜进行干法锂化，利用Ｘ光电子能谱和电化学方法分析不同锂化程度ＷＯ３薄膜的化学组分和电致变色性能。实验表明，当锂化ＷＯ３薄膜中Ｌｉ原子与Ｗ原子的数目比在０．１５左右时有良好的可逆性和着色效率。利用该方法制备了性能良好的单片式导Ｌｉ＋全固态电致变色薄膜器件Ｇｌａｓｓ／ＩＴＯ／ＷＯ３·Ｌｉ／ＬｉＦ·ＡｌＦ３／Ｖ２Ｏ５／Ａｌ。     

具有低偏振像差的偏振分色合色系统

提出了一种具有低偏振像差的偏振分色合色系统的设计方法。通过优化设计得到的结果为:短波通膜透射曲线的S、P偏振分离为1.9nm,长波通膜透射曲线的S、P偏振分离为0.8nm;短波通膜和长波通膜合成的S、P偏振位相差在整个工作波长420~680nm为小于29°且大于-10°,相比常规的偏振分色合色系统,偏振像差得到了显著改善。     

膜厚监控系统的光谱宽度对波分复用窄带滤光片性能的影响

通过对光学薄膜监控系统的分析,指出在波分复用超窄带滤光片的制备中必须考虑系统光谱宽度的影响.给出了监控波长带宽影响的模拟分析结果,表明监控波长带宽在滤光片通带半宽度一半以内时,可以满足膜系的性能要求.     

液晶投影显示的色纯度和色均匀性

用1913CIE和1976CIE分析了液晶投影显示分色系统对图像色纯度和色均匀性的影响。介绍了分色系统的膜系设计，与典型的分色膜系相比，优化膜系由于通带中的波纹显著减小，色纯度得到明显改善，尤其是绿光，讨论了照明光孔径角对分色系统均匀性的影响，提出了用厚度渐变的楔形膜校正色差的方法，使色均匀性得到显著改进。     

激光反射镜中的光学损耗

激光反射镜中的吸收散射损耗,限制了反射率的进一步提高。本文讨论反射镜的吸收散射理论以及减小损耗、提高反射率的途径。基于反射镜中的驻波场分布,设计的19层ZnS/MgF_2—ThF_4组合膜系,具有极小的光学损耗。实验证实,制备损耗低于0.2％和反射率高达99.8％的优质反射镜是完全可能的。     

电子束蒸发玻璃薄膜中间层的阳极键合研究

介绍了一种用电子束蒸发Schott 8329玻璃薄膜作为中间层,实现硅-硅以及硅-SOI阳极键合的方法.调整蒸发时的工艺并且450℃退火,沉积了粗糙度9.62 nm、初始应力139 MPa、喷点较少的薄膜,从而获得了＞95%的键合面积.键合电压20 V,温度300℃～500℃下硅-硅的键合强度可达1.47 J/m2,同时分析了键合电流特性.400℃,40V下键合了Si和SIMOX SOI硅片,用TMAH溶液进行基底减薄,获得了厚介质层薄顶层硅结构,这为一些MEMS器件的制作奠定了基础.