用CMOS工艺实现VSR光电集成接收机的途径

介绍了10Gbit／s速率的甚短距离光传输系统VSR(Very Short Reach)中的接收机。分析了几种有希望用于VSR系统的CMOS工艺兼容的光电探测器。提出用CMOS电路实现VSR光电集成(OEIC)接收机的可能性和实现方法。     

岩石物理横波速度曲线计算技术

横波速度是地震勘探中的重要参数。针对实际生产中缺乏横波速度测井曲线资料，利用经验公式计算精确度不高的问题，通过对横波速度计算理论模型的研究分析，选择Blot-Gassman模型法，利用岩石矿物成分、流体成分、孔隙度及密度等测井曲线进行横波速度测井曲线的计算，并对横波速度计算技术和流程进行研究。在实际工区进行了横波速度曲线计算，计算结果与实测横波吻合程度较高，误差小于10％，该技术在储层和流体识别预测的应用中取得了较好效果。     

浅淡城市节水

城市水环境的日益恶化和城市缺水状况的日趋严重,将对人口城市化和经济可持续发展构成威胁。提出了城市节水管理的途径和方法,论述了城市节水管理的可行性,以及城市节水的循环使用效率对缓解城市用水紧张局面的重要意义。     

Phosphorus‐containing polyaryloxydiphenylsilanes with high flame retardance arising from a phosphorus–silicon synergistic effect

Polyaryloxydiphenylsilanes were prepared from phosphorus‐containing diols and diphenydichlorolsilane through solution polymerization. With a stoichiometric imbalance in feed monomers, the resulting polymers exhibited moderate melting points and good processing properties. The polymers prepared showed initial decomposition temperatures above 340 °C, excellent thermal stability, high char yields at 850 °C and very high limited oxygen index values of 56–59. The polymers' char yields and their (P + Si) contents showed linear relationships. © 2003 Society of Chemical Industry     

浅议固定资产减值准备与累计折旧的关系

玻璃行业的固定资产一般数额较大,使用寿命较长。根据会计“持续经营”这一假设,固定资产不需要在短期内变现,是以历史成本为计价基础的。一般情况下其帐面价值不考虑市价变动影响。事实     

SCB火工品的研究与发展

文章评述了半导体桥火工品问世以来的研究成果与发展趋势。主要内容有半导体桥作用机理、半导体桥的结构与封装、半导体桥火工品的特点、半导体桥火工品的应用、半导体桥火工品的研究和发展趋势。     

石油沥青60℃动力粘度测定影响因素的探讨

粘度是表征沥青稠度的一个重要指标。通过论述石油沥青粘度测定法(真空毛细管法)中毛细管的选择、温度、真空度、取样量等对试验结果的影响及试验过程中的其它注意事项,表明了在测定石油沥青的60℃动力粘度时,必须严格按照试验方法的要求进行测定,以保证试验结果的准确性。     

哈得4联合站技术改造

位于塔克拉玛干大沙漠腹地的哈得4油田,2004年成为全国最大的沙漠油田,2005年产量达到200×104t。在对联合站存在问题逐一分析的基础上,提出了技术改造的措施。现场采集的运行数据表明技术改造效果明显,增强了流程可靠性,提高了自动化水平,降低了能耗。     

恶意修改IE浏览器及注册表的解决方法

我们在上网时,经常遇到恶意攻击,如IE浏览器被修改、注册表被锁定等,本文主要介绍了遇到这些情况时,将其解决的几种方法.     

Hf-doped and NH/sub 3/-nitrided high-K gate dielectric thin film with least drain current degradation and flatband voltage shift

A novel technique to form high-K dielectric of HfSiON by doping base oxide with Hf and nitridation with NH/sub 3/, sequentially, is proposed. The HfSiON gate dielectric demonstrates excellent device performances such as only 10% degradation of saturation drain current and almost 45 times of magnitude reduction in gate leakage compared with conventional SiO/sub 2/ gate at the approximately same equivalent oxide thickness. Additionally, negligible flatband voltage shift is achieved with this technique. Time-dependent dielectric breakdown tests indicate that the lifetime of HfSiON is longer than 10 years at V/sub dd/=2 V.