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11.
CVD(化学气相沉积)金刚石大单晶生长是CVD金刚石膜研究领域在过去十余年中所取得的重大技术进展之一,在一系列高新技术领域有极其重要的应用前景。针对CVD金刚石大单晶的制备和应用进行了综述。首先对CVD金刚石大单晶生长技术进行了概括性的描述,然后对CVD金刚石单晶制备方法进行详细介绍和评述。并对CVD大单晶在高性能辐射(粒子)探测器、金刚石高温半导体器件、高压物理试验、超精密加工以及在首饰钻戒等方面的应用现状与前景进行了介绍与评述。最后针对CVD高仿钻戒与天然钻戒的鉴别进行了评述,并提出了新的建议。 相似文献
12.
直流电弧等离子体喷射金刚石厚膜生长不稳定性问题 总被引:4,自引:0,他引:4
采用高功率直流电弧等离子体CVD工艺制备了不同厚度的金刚石自支撑膜。观察到在金刚石厚膜生长过程中出现形貌不稳定性,并往往导致膜层组织疏松,强度降低。本文从理论和实验观察两个方面进行了讨论。生长不稳定性在任何高速沉积CVD过程中都可能发生,而直流电弧等离子体的高温造成碳源高饱和度以及高温等离子体射流对衬底表面的冲击,使之比其它CVD金刚石膜沉积工艺具有更大的不稳定生长倾向。基于实验研究结果,建议在较低的气体压力下沉积,以减小金刚石厚膜生长的不稳定性。 相似文献
13.
根据北方火力发电厂所处的地理位置及厂址区域条件,对汽轮机的排汽冷却采用直接空冷和间接空冷方式的系统配置进行技术经济分析比较,确定最佳的设计方案。 相似文献
14.
研究了直齿型及斜齿型高速分散搅拌器的搅拌功率特性和流体的流动状态,分析了搅拌器几何参数和搅拌效果,为今后的设计提供理论依据,以满足更多的市场需求。 相似文献
15.
16.
微/纳米复合多层金刚石自支撑膜的制备及应力研究 总被引:1,自引:0,他引:1
利用大功率DC Arc Plasma Jet CVD装置,采用Ar-H2-CH4混合气体为气源,通过优化工艺参数,在多晶钼衬底上制备出了多层复合金刚石自支撑膜.利用扫描电镜(SEM)、X射线衍射(XRD)、激光拉曼谱(Raman)对膜体进行表征,结果显示,多层膜体的组织结构体现了微米金刚石与纳米金刚石的典型特征;复合金刚石自支撑膜具有光滑的表面,微米层与纳米层间呈相互嵌套式的界面;此外,利用激光拉曼谱分析了多层膜中的内应力状态,研究发现,多层膜中各层膜体具有不同的内应力状态,内应力沿膜体生长方向有明显变化,呈现出从压应力到拉应力的变化过程. 相似文献
17.
18.
通过对800kV户外耐污棒形产品的研发背景、技术指标、产品设计及工艺过程等一系列阐述,充分显示该产品既可给企业带来良好的经济效益和社会效益,又可以满足国家电力发展的需要。 相似文献
19.
由于工作的缘故,笔者总是朝饮食文化这个圈子里钻,尤其在名人行列中寻觅美食家。早就听说原《解放日报》总编、现上海市新闻工作者协会(上海记者协会)主席丁锡满先生对饮食文化很有研究,但一直苦于采访无门。这次巧了,最近一位饭店经理宴清,席上与丁先生不期而遇。于是笔者当面提交“申请”。丁先生虽然谦逊地告之其对饮食文化并无什么研究,但还是欣然应之。 相似文献
20.
通过计算和实验证明,用EDTA滴定法测定非强酸性水样硬度时,铁(Ⅲ)离子不产生干扰,并对一些教材中的有关内容提出异议。 相似文献