200MW汽轮机调速系统速度变动率调整试验新方法

1 影响速动率的因素汽轮机调速系统的速度变动率δ是静态特性曲线的斜率。在有差调节的汽轮机中,由于转速不能保持恒定,随着汽轮机输出功率(或负荷)的增加,转速不断下降,调节系统只能限制转速在很小的范围内变动。机组空负荷对应的转速与满负荷对应的转速之差与额定转速之比称为速度变动率δ。     

石门电厂300MW汽轮机润滑油系统的改造

1 存在的问题1.1 油净化器问题石门电厂2台300MW汽轮机是哈尔滨汽轮机厂引进美国西屋公司技术生产的,其汽轮机润滑油系统的油质处理工作欠缺,虽然配备了1台YJH—7000型油净化器,引入油净化器的管道设计为“倒U”型自流式,这样主油箱内的杂质和水分就不能充分过滤处     

数码摄影与摄像一体化新动态

数字技术为相关影像设备的兼并与组合创造了理想的条件,从而有力地推动了一体化技术的发展.在数码影像设备一体化进程中,目前最为热门的当属数码摄影与摄像一体化和数码打印与扫描一体化.……     

Nd-Fe-B晶体生长特点及近快冷厚带制备技术的关键

简要叙述了Nd-Fe-B合金在平衡、非平衡条件下的凝固规律及其晶体生长特点。高性能烧结Nd—Fe-B磁体对母合金组织的要求(不含α—Fe，具有明显的柱状晶，柱状晶尺寸均匀，宽度在5～25μm之间，富Nd相有序排列，分布均匀)及Nd-Fe—B磁体在通讯、电子、医疗等行业的大量应用，促进了新兴近快冷厚带制备技术的诞生。系统阐述了新兴近快冷厚带制备技术的特点与优势；从柱状品的生长条件出发，重点说明了诸如化学成分优化、氧含量、温度场、冷却速度等关键工艺参数的控制原则。     

喷射成形CuCr25合金触头材料的制备及致密化处理

利用喷射成形技术制备了CuCr2 5合金触头材料 ,研究了雾化压力对显微组织、致密度和收得率的影响 ,对制得的沉积坯件进行了热锻压和热等静压致密化处理 ,并测试了触头材料的密度、硬度和电导率。研究结果表明 :最合适的雾化压力为 0 .6MPa ,沉积坯件经过 95 0℃锻压后再在 10 70℃ ,2 0 0MPa下热等静压 8h ,可以得到全致密的触头材料 ,铬颗粒平均直径小于 10 μm ,硬度达 10 0HB ,电导率 2 5～2 9Ms·m- 1 ,说明致密化处理后的喷射成形CuCr2 5合金是一种优良的触头材料。     

冲压外圈超越离合器滚针轴承结构及其自锁条件

对冲压外圈超越离合器滚针轴承的结构和工作原理作了介绍。在轴承自锁状态下,分析了滚针的受力情况,推导出轴承自锁条件,即楔角α=8°～10°。附图2幅。     

适用于石墨铸铁的新型冒口手册化

列出了经生产验证，适用于石墨铁（灰铁，球铁）的新型冒口的类型及其尺寸系列；给出了冒口类型，尺寸，数量，位置等选用，确定原则，使新型冒口设计手册化。对新型冒口的推广和应用有一定促进作用。     

集成式计算机协同工作(CSCW)支持环境的研究与实现

提出了一种构造集成式计算机支持的协同工作（ＣＳＣＷ）支持环境的解决方案,介绍了集成机制的原理、消息机制与挂接机制的结合和应用,以及ＣＳＣＷ支持环境的设计与实现技术．讨论了相关问题,提出并实现了改进方案．同时,也介绍了集成式ＣＳＣＷ支持环境与视频会议系统的结合．     

离子束轰击对电子束蒸发制备二氧化钛薄膜应力的影响

在硅基底上用电子束蒸发方法制备了二氧化钛薄膜.通过XRD、AFM和薄膜应力测试仪研究了离子束轰击对薄膜应力的影响规律.结果表明沉积温度为323K、沉积速率为0.2nm·s-1时,二氧化钛薄膜具有较小的应力值,平均应力为48.2MPa.用能量为113eV的离子束轰击300s时,平均应力由72.9MPa的张应力变为16.7MPa的压应力.二氧化钛薄膜的微观结构变化是影响薄膜应力的主要因素.     

交换耦合双层膜NiO/Ni81Fe19的基片温度效应研究

用射频磁控溅射方法在不同基片温度下玻璃基片上分别制备NiO单层膜、NiFe单层膜和NiO／NiFe双层膜,研究了不同基片温度对膜的磁性能的影响．用振动样品磁强计（VSM）分析了膜的磁特性,结果表明：基片温度260℃时淀积的NiFe膜矫顽力Hc为184A·m^－1,小于室温淀积NiFe膜的H_c（584A·m^－1）,且磁滞回线的矩形度更好．室温下淀积NiO（50nm）／NiFe（15nm）双层膜的Hc为4000A·m^－1,交换耦会场（H_EX）仅为1600A·m^－1,磁滞回线的短形度很差,而260℃时淀积的双层膜的Hc下降到3120A·m^－1,H_EX却增大为4640A·m^－1,同时磁滞回线的矩形度也得到改善,其截止温度T_B高达230℃．X射线衍射（XRD）分析了膜的织构,结果表明：室温下淀积NiO膜呈现（220）织构,而260℃时淀积NiO膜呈现（111）织构;室温和260℃淀积的NiFe膜都呈（111）织构,但后者晶粒比前者大．