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101.
为探究中药白簕(Acanthopanx trifoliatus(L.) Merr.)能否作为高效、低毒的防治阿尔茨海默病的天然药物原料,选用大鼠肾上腺嗜铬细胞瘤株PC12作为神经细胞模型,建立Aβ25-35诱导的PC12细胞氧化损伤模型,测定白簕叶总多酚干预24 h后PC12细胞存活率;通过AAPH诱导的PC12细胞衰老模型和β-半乳糖苷酶活性染色法评估PC12细胞衰老情况。结果表明:与仅损伤处理组相比,5~60 mg/L的白簕叶总多酚能够显著提高(p<0.05)经Aβ25-35诱导的氧化损伤的PC12细胞的存活率,且能够降低AAPH诱导的细胞衰老模型中的β-半乳糖苷酶活性,表明白簕叶总多酚对PC12细胞具有显著的保护作用,能有效缓解PC12细胞氧化损伤与衰老。该研究为寻找有效防治阿尔茨海默病的天然药物的鉴定与筛选提供理论依据。 相似文献
102.
为探究设计美学内涵中的比例在服装内、外部造型设计中的作用,分析了黄金比例、根号矩形比例、渐进比例和人体比例等在服装款式图绘制和外部轮廓线中的应用规律,以及对服装内部6条纵、横向分割线的视觉影响。结果表明,在服装设计中恰当的比例不仅能提高款式图的美观度、丰富服装廓形、优化女性的身材比例、提升服装造型的视觉效果,还能为服装款式图的绘制、外部轮廓线和内部结构线的设计等提供科学的依据。 相似文献
103.
不同类型碳化物在基体中的分布对高速钢轧辊性能的影响 总被引:2,自引:0,他引:2
通过对具有不同组织的两种进口高速钢轧辊及一种国产辊环进行冷热疲劳试验及摩擦磨损试验,研究了不同类型碳化物在基体中的分布对高速钢轧辊性能的影响。结果表明,在晶界处分布的大块未溶共晶碳化物周围容易萌生裂纹,且大块的未溶共晶碳化物在经过多次冷热疲劳循环后容易碎裂并脱落,在磨损过程中,大块未溶共晶碳化物同样容易发生碎裂及脱落现象,大大影响耐磨损性能;裂纹容易沿晶界处分布的碳化物扩展,且晶界处分布大块的未溶共晶碳化物或碳化物联结成网状容易促进裂纹的扩展;晶界处M2C型碳化物与晶界成一定角度分布,具有一定阻碍裂纹扩展的作用;不同类型碳化物在基体中的弥散分布对于提高其耐磨性能具有很大作用。 相似文献
104.
冷拉拔珠光体钢丝中渗碳体变形与溶解研究 总被引:2,自引:0,他引:2
采用SEM、TEM和XRD研究了珠光体钢丝冷拉拔过程中的组织演变,重点在于渗碳体的变形和溶解。结果表明,渗碳体表现出了很高的变形能力,随着累积应变量的增大,片条组织逐渐转向拉拔方向;在大应变钢丝组织中渗碳体片条厚度小,部分区域只有0.5nm甚至更薄,且已很难见到渗碳体的滑移或剪切变形。在初始钢丝中铁素体含有过饱和的碳,在拉拔应变量为1.51之后,可能转变为四方结构的马氏体,且只有很少量的渗碳体溶解。在高应变量钢丝样品中,用原子探针场离子显微镜探测碳原子浓度以判定渗碳体是否溶解时,应考虑渗碳体的形变及其形貌。 相似文献
105.
射频辉光放电硅烷等离子体的光发射谱研究 总被引:6,自引:6,他引:0
通过对RF—PECVD技术沉积氢化非晶/微晶硅(a—Si:H/μc—Si:H)薄膜沉积过程中硅烷(SiH4)等离子体的光发射谱(OES)原位测量,系统地研究了不同的等离子体工艺条件下,特征发光峰强度(ISiH、IHα和IHβ)的变化规律。结果表明:随着SiH4浓度增大,ISiH^*单调增大且在不同浓度范围内变化快慢不同,而IHα和IHβ峰表现为先增后减的变化,最大值位于3—5%的SiH4浓度之间;工作气压的增大,各特征发光峰均呈现出先增后减的变化,但最大值对应的工作气压点有所不同;增大等离子体功率,所有的特征发光峰单调增加,但在不同的功率区间内变化快慢存在明显差异;气体流量在40一75sccm范围内变化时对特征发光峰的影响最为显著,更低流量时变化很小,更高流量则趋于饱和;衬底温度不仅影响生长表面的发应,对SiH4分解机制的影响不容忽视。 相似文献
106.
107.
108.
109.
微晶硅电池的制备及提高其效率的优化 总被引:1,自引:0,他引:1
采用甚高频等离子体增强化学气相沉积(VHF-PECVD)技术制备了不同硅烷浓度系列的微晶硅电池。结果表明:电池的开路电压随着硅烷浓度的增大而逐渐增加,而电池的短路电流则先增加后减小,在转折点电池的效率达到最大,填充因子则变化不明显;(220)择优取向出现,I(220)/I(111)比值大,电池的短路电流密度也大,电池的效率也最高;在实验的范围内,电池的短路电流密度和厚度成正比例关系;首次在国内制备出了效率达7.3%,短路电流密度(Jsc)为21.7mA/cm2,开路电压(Voc)为0.52V,填充因子(FF)为65%的微晶硅电池。 相似文献
110.
主要阐述了近年来薄膜太阳电池用绒面结构氧化锌(ZnO)透明导电氧化物(Transparent conductive oxides,TCO)薄膜以及光管理设计方面的研究进展。主要包括溅射湿法刻蚀技术、等离子体刻蚀玻璃衬底技术、等离子体处理修饰ZnO薄膜表面技术、修饰层改善ZnO薄膜表面技术、梯度杂质掺杂技术、复合特征尺寸生长设计以及直接生长绒面结构ZnO薄膜技术和宽光谱ZnO薄膜生长设计等。此外,对薄膜太阳电池中的先进光管理(Light management)结构设计及新材料应用进行了探讨和展望。 相似文献