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51.
大曲中酯化菌的分离及在黄浆水酯化技术中的应用 总被引:1,自引:3,他引:1
从大曲中分离出一株酯化菌WD-5,经初步来红曲霉菌,其酯化力达685mg/100ml,将该菌应用于黄浆水酯化技术中,通过实验找到了最佳黄浆水酯化条件。 相似文献
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对比了在相同的孕育剂75SiFe孕育下多元合金添加剂(RE、Cr、Mn、Si、Fe)和Cu分别合金化处理得到的灰铸铁力学性能和加工性能,以及多元合金添加剂合金化处理不同孕育剂孕育得到的灰铸铁力学性能和加工性能.结果表明:在75SiFe孕育的情况下,多元合金添加剂合金化处理的灰铸铁与Cu合金化处理的灰铸铁相比,抗拉强度降低了6.5%,主切削力降低了3.5%~7.7%(切削深度2~3 mm),加工性能略好.均用多元合金添加剂合金化处理时,使用不同孕育剂75SiFe、SrSi和BaSi孕育得到的灰铸铁件强度基本相同,而SrSi孕育处理的灰铸铁切削加工性能最好. 相似文献
56.
脉冲偏压对电弧离子镀Ti/TiN纳米多层薄膜显微硬度的影响 总被引:4,自引:0,他引:4
采用脉冲偏压电弧离子镀方法在高速钢基体上沉积Ti/TiN纳米多层薄膜,采用正交实验法设计脉冲偏压电参数,考察脉冲偏压对Ti/TiN纳米多层薄膜显微硬度的影响.结果表明,在所有偏压参数(脉冲偏压幅值、占空比和频率)和几何参数(调制周期和周期比)中,脉冲偏压幅值是影响显微硬度的最主要因素;当沉积工艺中脉冲偏压幅值为900V、占空比为50%及频率为30kHZ时,薄膜硬度可高达34.1GPa,此时多层膜调制周期为84nm,TiN和Ti单元层厚度分别为71和13nm;由于薄膜中的单层厚度较厚,纳米尺寸的强化效应并未充分体现于薄膜硬度的贡献中,硬度的提高主要与脉冲偏压工艺,尤其是脉冲偏压幅值对薄膜组织的改善有关. 相似文献
57.
电弧离子镀沉积Cr-O-N活性扩散阻挡层 总被引:4,自引:0,他引:4
采用电弧离子镀技术在NiCoCrAlY涂层与高温合金基材DSM11间沉积不同成分的Cr-O—N薄膜作为扩散阻挡层,研究了900℃下氧化1400h后DSM11/Cr—O—N/NiCoCrAlY体系中Cr-O-N层阻挡合金元素互扩散的行为以及阻挡层对涂层氧化动力学曲线的影响.结果表明,Cr-O-N层在高温氧化过程中生成与涂层和基材有良好结合的富Al氧化物层,可以阻挡DSM11基体与NiCoCrAlY涂层间的元素互扩散,起到活性阻挡层的作用;Cr-O-N层中。和N含量影响生成富Al氧化物层的连续性和致密性,从而影响其阻挡元素互扩散的性能.几种成分的Cr-O-N活性扩散阻挡层对NiCoCrAlY涂层900℃下的高温氧化性能都有一定的改善作用,改善程度与阻挡层阻挡合金元素互扩散的程度保持一致. 相似文献
58.
59.
测定了IC-6高温合金在900℃-1100℃的氧化动力学曲线。结果表明:900℃,IC-6合金的氧化膜主要由α-Al2O3、NiAl2O4和NiO构成并含有少量的NiMoO4和MOo2.1050℃和1100℃氧化时,IC-6合金表面生成了挥发性很强的MoO3,发生了氧化失重,IC-6合金上沉积NiCoCrAlY涂层后,900℃,涂层的氧化膜主要为α-Al2o3;1050℃时,氧化膜主要为α-Al2O3和Cr2O3,大大改善了合金的抗氧化性;1100℃时,氧化膜主要由α-Al2o3、NiAl2O4和NiO构成,涂层虽然有一定的保护性,但效果不如900℃和1050℃时显著,形成以α-Al2O3和Cr2O3为主的氧化膜是使合金沉积NiCoCrAlY涂层后抗氧化能力大大提高的直接原因。 相似文献
60.
从陶瓷粉的材料特性入手,阐述了陶瓷粉作为混凝土矿物掺合料的可行性和水化特性,在此基础上,进一步从陶瓷粉对水泥基胶凝材料的工作性、强度、耐久性的影响等方面,综述了水泥-陶瓷粉胶凝材料的国内外研究现状。并针对现有研究存在的问题,对水泥-陶瓷粉胶凝材料的进一步研究提出了建议。 相似文献