医用支架用硅橡胶涂覆膜的研究

介绍了非血管性腔道用支架涂覆硅橡胶膜的工艺,并对膜材料的物理机械性能、化学性能及生物安全性进行了测试,结果表明：硅橡胶覆膜对人体是安全的,覆膜强度达到使用要求。     

500 m3/h除盐水站经济运行的改进与应用

通过对５００ｍ＾３／ｈ除盐系统进行试验,找出该系统再生过程中典型工况及经济数据,寻找出再生过程中比耗最低的最佳工况;对运行过程中的各种因素进行试验,寻找运行过程中系统各庆体的临界失效点,在保证水质的前提下,找出床体运行过程中的最佳工况,从而来降低系统的酸碱比耗,实现除盐系统的经济运行。     

高斯电子束曝光系统

电子束光刻技术是纳米级加工技术的主要手段,在纳米器件加工、掩模制造、新器件新结构加工中扮演举足轻重的角色。虽然现在最先进的电子束聚焦技术可以得到几个纳米的电子束斑,但是由于邻近效应问题,依然很难使用电子束光刻技术得到接近其理论极限的纳米尺度图形,对电子束曝光系统的基本原理及其邻近效应校正技术进行了研究,并得到一些比较理想的曝光结果。     

某水电站大孔口深孔弧形闸门设计探讨

某水电站地处寒冷地区,由高坝大库组成,在预可研前期泄水系统作了放空洞参与施工度汛的方案。该方案设置的中层放空洞弧门孔口尺寸大、挡水及运行水头高,设计难度大。因此,以传统的设计思路,不仅其门叶、支臂、支铰的制造、运输及安装难度大,而且其启闭设备的技术水平要求也很高,实现的难度大。加之,若其水封采用技术成熟、经济性较好的充压式止水型式在低温情况下存在管路冻住失效的风险,不利于弧门的安全运行。因而,本文针对以上问题对该大孔口深孔弧形闸门的结构、水封、门槽及启闭设备型式进行了分析比较,并提出相应的解决方案,可为后续类似弧形闸门的设计提供一些借鉴和参考     

一种新型抗静电剂的合成

研究并合成出新型表面活性剂,对其抗静电性做了测试,所测结果已达到甚至优于一般市售的抗静电剂。     

抗氧剂2246在BR生产中的应用

分析了抗氧剂２２４６对ＢＲ的稳定化作用，并与抗氧剂２６４的稳定效能进行了比较。结果表明，抗氧剂２２４６和抗氧剂２６４用量相同时，前者使ＢＲ的氧化诱导期延长，氧化温度提高，热氧老化性能改善，且耐候性，加工稳定性都明显变好。采用０．６％抗氧剂２２４６，即可达到或超过１．１％抗剂２６４的效能，并能满足ＢＲ贮存３ａ及在运输，加工过程中性能稳定不变的要求。     

溪洛渡水电站泄洪洞钢模台车模板三维有限元分析

台车的模板在浇筑混凝土时受力最大。运用CATIA软件有限元分析模块对溪洛渡水电站泄洪洞钢模台车模板进行三维有限元分析,在浇筑混凝土工况下,所有模板绝大部分等效应力小于85 MPa,局部应力集中处等效应力的最大值也不超过170 MPa,均小于钢材的屈服强度;其中面板受力较小,边模拱板、横隔板和加强拱板受力最大,台车模板的受力变形情况良好,满足设计的安全可靠性要求。     

地质雷达技术与岩土勘察技术相互补充的应用分析

岩溶地区的岩土勘察可能出现勘察成果与现场实际不相符的情况，这是经常遇到的问题，需要技术人员认真加以面对和解决。不一致的原因包括技术主次不分、忽略一些不可预见的因素、钻探的限制性及利用雷达技术的长处解决钻探的短板等。     

光学和电子束曝光系统之间的匹配与混合光刻技术

介绍如何实现光学和电子束曝光系统之间的匹配和混合光刻的技术,包括:(1)光学曝光系统与电子束曝光系统的匹配技术;(2)投影光刻和JBX-5000LS混合曝光技术;(3)接触式光刻机和JBX-5000LS混合曝光技术;(4)大小束流混合曝光技术或大小光阑混合曝光技术;(5)电子束与光学曝光系统混合光刻对准标记制作技术.该技术已成功地应用于纳米器件和集成电路的研制工作,实现了20nm线条曝光,研制成功了27n m CMOS器件;进行了50nm单电子器件的演试;并广泛地用于100nm化合物器件和其他微/纳米结构的制造.     

输电线路铁塔接地电阻的测量

阐述了输电线路铁塔接地电阻的概念和国内目前使用的两种接地电阻测量仪表的工作原理,并介绍了两种接地电阻测量仪表的使用条件.