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51.
分别采用射频磁控溅射、热壁化学气相沉积(CVD)、电泳沉积法制备GaN薄膜。利用扫描电镜(SEM)、荧光光谱仪对样品进行结构、形貌和发光特性的分析比较。射频磁控溅射方法中,把SiC中间层沉淀到Si衬底上,目的是为了缓冲由GaN外延层和Si衬底的晶格失配造成的应力。结果证实了SiC中间层提高了GaN薄膜的质量。热壁化学气相沉积法制备GaN晶体膜时,选择H2作反应气体兼载体,有利于GaN膜的形成。电泳沉积法显示所得样品为六方纤锌矿结构的GaN多晶薄膜。结果表明:溅射法制备的GaN薄膜结晶效果好;CVD法制备时GaN薄膜应用范围广;电泳沉积法操作方便、简单易行。 相似文献
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53.
65 nm及以下线宽对Si片表面的各方面性能要求越来越高,主要体现在两个方面,一个是加工工艺,另一个是加工设备.在加工方法上,65 nm线宽用300 mm Si片不同于90 nm,如运用多步单片精密磨削,不仅可以提高表面几何参数,还可以减小表面特别是亚表面的损伤层.而对于加工设备,要求更加精密,特别是单面精抛光,在保证去除量的同时还要使Si片表面各点的去除量保持均匀.对目前300 mm Si片的磨削、抛光及清洗的每一道工艺流程,特别是相对于65 nm技术的一些加工流程及方法的最新发展进行了详细的论述,指出了300 mm Si片加工工艺的发展趋势. 相似文献
55.
只要认真进行可靠性评估就可以事先发现问题,这是降低问题出现的唯一正确途径。因为原材料可靠性的好坏直接联系着产品质量的优劣,现在有很多厂商愿在模块,元器件等原材料的可靠性评估上投入足够的时间与资金(见图7),对原材料的检验各厂商虽然有所不同。 相似文献
56.
SiO_2 nanowires were prepared on a SiO_2/Si(111) or Si substrate using Au as a catalyst.The products were characterized using scanning electron microscopy(SEM) and X-ray photoelectron spectroscopy(XPS).SEM shows that large amounts of SiO_2 nanowires with a diameter of 20-150 nm and length of several nanometers were formed on the entire surface of the substrate.XPS analysis indicates that the nanowires have the composition of Si and O in an atomic ratio of about 1:2,and their composition approximates that... 相似文献
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58.
59.
针对结构参数对TSV可靠性影响不明确的问题,文中采用有限元分析和模型简化的方法,分析了TSV结构在温度循环条件下的应力应变分布,并进一步研究了铜柱直径、SiO2层厚度以及TSV节距等结构参数对TSV结构可靠性的影响。结果表明,采用文中的方法简化模型后得出的结果拟合度在0.95以上;在TSV结构上施加温度循环载荷时,在SiO2界面会出现应力集中,而在钝化层中会出现应变增大;改变铜柱直径、绝缘层厚度和TSV节距将显著影响TSV结构的可靠性;减小填充铜的直径、增加SiO2层的厚度、增加TSV节距,都将有助于减小TSV结构的最大应力。 相似文献
60.