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非平衡磁控溅射法Ti/TiO2薄膜的制备及分析 总被引:1,自引:1,他引:1
在光学玻璃衬底上利用新型非平衡磁控溅射技术沉积了Ti/TiO2薄膜。原子力显微镜分析表明,薄膜表面光滑、致密、均匀,表面粗糙度(Ra)小于10nm,组成薄膜的颗粒尺寸小于100nm。膜厚测量分析表明,TiO2薄膜的沉积速率达110nm/min。在拉曼光谱中,没有出现晶态TiO2薄膜的散射峰,表明所得TiO2薄膜为非晶结构。利用紫外-可见光全反射谱分析了薄膜的光学性能,结果发现,单纯TiO2薄膜存在微弱吸收,在波长约550nm时出现最大反射率,其后波长越大,吸收率越高;在Ti/TiO2薄膜体系中,随着沉积的Ti膜的厚度增大,Ti薄膜界面的反射率增大,薄膜吸收率提高;在玻璃衬底的正反面均沉积适当厚度的Ti/TiO2薄膜时,能够获得不同的色彩效果;根据薄膜干涉特征,计算所得TiO2薄膜的折射系数约为3.0。另外,所得TiO2薄膜不存在明显光电效应。 相似文献
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