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合成二氧化硫脲工艺条件的研究 总被引：3，自引：0，他引：3
合成二氧化硫脲工艺条件的研究袁泽普（湖北省化学研究所，武汉４３００７４）一、前言早在１９１０年，Ｂａｒｅｔｔ首先合成二氧化硫脲。接着，美国杜邦公司开始进行合成和应用研究，由于反应机理和反应热问题，未能形成生产能力。直到１９６７年，才由日本东海电化工业... 相似文献
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介绍了用于精馏塔控制的DJK-200集散型控制系统的硬、软件及其串级组态方式,说明了该系统软件的使用方法及现场应用效果。 相似文献
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挤压铸造和固态挤压的有效结合，能够得到组织致密的结构件。通过增加补偿板和垫板，能够较方便的实现挤压铸造后的固态挤压工序。本文介绍了针对圆柱形制件的液固复合挤压模具的模具结构和工作过程，这种一模两工序的设计思想也可应用于其他结构件的成形。 相似文献
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众所周知,闪存比原来的软盘有着一些无可比拟的优越性,如容量大、速度快、不易变质、不易损坏等等,加上近来价格的进一步下调,购买闪存以取代软盘的朋友也越来越多,甚至有些朋友在配电脑时已经不配置软驱了。一朋友问我,因Windwos98系统崩溃,想在DOS启运后使用U盘,该如何使用?为了表现我这个“专业人员”的与从不 相似文献
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袁仄 《中国服装(北京)》2003,(14):10-11
中国服装专业的高校本科教育到2003年已整整20年，服装教育的发展伴随着中国服装产业的发展进步而迅猛的成长，并在其中起到了不可或缺的作用。然而，服装的高等教育在社会上也倍受争议…… 相似文献
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本文从积分电容漏电的作用过程，分析其对调节器品质带来的影响，指出调节器出现手动一自动跟踪不良的原因。 相似文献
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新的一代光刻设备朝着两个方向发展 ,一是趋向于大数值孔径、短波长 ;另一方面国际上正在寻求适应二十一世纪、小于 0 .1 5微米线宽的软 X射线投影光刻技术 ,预计成为下世纪制造千兆位以上超大规模集成电路的主要设备。软 X射线光刻及其应用研究是目前国际上非常活跃的高技术领域。把软 X射线光刻列为重要发展项目。本文摘要综述德国、美国、日本、俄罗斯等国近年来在软 X射线光刻关键单元技术及整机研究和发展方面的概况、预计下世纪初美国和日本将有软 X射线投影光刻机投入工艺生产线 相似文献