2.9GHz 0.35μm CMOS低噪声放大器

随着特征尺寸的不断减小,深亚微米CMOS工艺其MOSFET的特征频率已经达到50Hz以上,使得利用CMOS工艺实现GHz频段的高频模拟集成电路成为可能,越来越多的射频工程师开始利用先进的CMOS工艺设计射频集成电路,本文给出了一个利用0．35μmCMOS工艺实现的2．9GHz单片低噪声放大器,放大器采用片内集成的螺旋电感实现低噪声和单片集成。在3伏电源下,工作电流为8mA,功率增益大于10dB,输入反射小于－12dB.     

巴西市场准入及LED照明产品法规解读(一)

随着一系列能源政策和措施的实施,巴西政府规定从2016年6月开始完全禁止白炽灯,大力推广LED灯,以减少能源损耗。LED照明产品的市场准入要求应运而生,法规将几类常见的LED照明产品纳入INMETRO强制性认证产品目录中。本文介绍巴西标准化和合格评定体系,详解巴西LED照明产品的最新认证法规和技术法规的要求,包括对产品特殊的安全、能效和电磁兼容要求和INMETRO认证法规中的注意事项。     

基于C#的组合挂车拼车方案查询系统的实现

对组合挂车拼车特点进行了介绍,然后在确定了拼车方案查询系统的总体目标和整体结构的基础上,利用C#语言设计并实现了组合挂车拼车方案查询系统.主要介绍了界面设计和数据编码设计,最后给出了一个查询示例.     

添加赖氨酸的猪肉脯在不同干燥温度下的质构稳定性

为改善猪肉脯在不同热风干燥温度下的质构稳定性,研究在干燥温度55～75℃条件下添加0.25%～0.75%赖氨酸对猪肉脯质构稳定性的影响。结果表明：添加0.50%赖氨酸可显著降低高温（70～75℃）干燥下猪肉脯的硬度和内聚性（P<0.05）,显著提高其弹性（P<0.05）,减小猪肉脯硬度、弹性、内聚性和咀嚼性在干燥温度55～75℃条件下的极差值,并可在（60±5）℃和（65±5）℃变化范围内将猪肉脯咀嚼性的极差值控制在1.4%以内;赖氨酸可能通过提高并稳定猪肉脯体系pH值、改善微观结构、提高肉蛋白及其二级结构的热稳定性、增强内部氢键作用力和水分流动性、阻滞肌球蛋白热降解等作用,提升猪肉脯在不同干燥温度下的质构稳定性。     

调温纳米纤维/织物复合材料的制备与性能研究

为了研究一种新的环保型调温智能纺织品,利用静电纺丝技术制备了相变材料/PLA纳米纤维膜,使用莫代尔/纳米纤维膜/羊毛织物的三明治结构得到了纳米纤维/织物复合材料。研究了纳米纤维的形貌结构和热学性能,对复合织物进行了透湿透气性、保温性能和保温稳定性测试。分析结果表明:纳米纤维表面粗糙但粗细均匀且具有一定的取向性;纳米纤维膜的熔融温度为22.83℃,熔融热焓为80.37J/g;含有1.5g纳米纤维膜的复合织物的透湿透气性良好,透湿量为5070.24g/(m2·24h),透气率为193.59mm/s;复合织物的温度从20℃上升到35℃比普通织物慢了5min,表现出优异的调温性能;经过20次升降温循环测试,复合织物的自调温效果没有明显变化,说明其调温性能具有良好的稳定性。     

食品专业英语教学方法创新——评《食品质量与安全专业英语》

正食品专业英语不仅是全球各国食品专业人员、学者相互交流的重要工具,也是我国学习借鉴国外同行业先进发展经验的有力手段,还是全球各地食品行业从业人员了解我国食品行业发展情况的一大途径。该门课程具有较强的综合性,且内容繁杂,涉及面十分广泛。其理论中各种概念、过程均十分抽象,学生学习难度大,对教师业务素质的极大考验。因而,有必要对该门课堂的教学方法进行研究分析,运用科学的方法,有针对地开展相应的教学创新,以此促进收获理想的教学成效。基于此,本次研究结合《食品质量与安全专业英语》一书,对食品专业英语教学方法创新展开研究探讨。由吴澎等主编的《食品质量与安全专业英语》一书从     

12Gb/s 0.25μm CMOS数据判决和1∶2数据分接电路

采用TSMC 0.25μm CMOS工艺成功实现了用于光纤传输系统的12Gb/s数据判决和1∶2数据分接电路.测试结果显示,在3.3V电源供电情况下,功耗为600mW,其中包括3路输出缓冲.输入信号单端峰峰值为250mV时,该芯片的工作速率超过12Gb/s,相位裕度超过100°.芯片面积为1.07mm×0.99mm.     

12Gb/s 0.25μm CMOS数据判决和1∶2数据分接电路

采用TSMC 0.25μm CMOS工艺成功实现了用于光纤传输系统的12Gb/s数据判决和1∶2数据分接电路.测试结果显示,在3.3V电源供电情况下,功耗为600mW,其中包括3路输出缓冲.输入信号单端峰峰值为250mV时,该芯片的工作速率超过12Gb/s,相位裕度超过100°.芯片面积为1.07mm×0.99mm.     

多模式旋转磁场对电弧离子镀弧斑放电的影响分析

电弧离子镀工艺中,弧斑的放电形式、运动速率、运动方式的控制对于减少以至消除大颗粒的发射至关重要。本文采用自主研发的机械式旋转磁控弧源,围绕三种不同模式的旋转磁场下弧斑的放电行为及规律进行了研究,并从弧斑放电的物理机制出发,分析讨论了不同模式的旋转磁场对阴极斑点运动的影响机理。研究结果表明,多模式旋转磁场可以有效提高弧斑的运动速度、扩大放电面积、降低放电功率密度、减少大颗粒的发射,同时还能够大幅度提高靶材的利用率,拓展电弧离子镀的应用。