X光照引起的Cu2p_(3/2)光电子峰位移及酞菁铜分子内的电荷转移

用光电子谱研究了X光辐照下酞菁铜分子内的电荷转移情况。通过改变X光源的功率 ,发现高功率下Cu 2p3/ 2的光电子峰相对于低功率下的Cu 2p3/ 2 峰有 0 11eV的位移。由此推断在X光辐照下 ,有负电荷从铜原子转移到分子的其他部分。这一现象有助于解释金属酞菁在光照下分子内的电荷转移机理及光导现象。     

涂料防活性工艺在仿蜡防花布生产中的应用

介绍了仿蜡防印花布的印花浆制作、印花工艺及生产时的注意点。     

宏程序在多品种小批量生产中的应用

以某产品为例说明,利用宏程序为多品种小批量(产品结构相似,加工过程相似,每批数量不大)生产建立通用程序,可显著提高生产效率。利用宏程序还可以预防和避免生产中曾经出现的撞刀问题,具体办法如下:利用条件语句,通过高度比较,规避盘铣刀撞到夹具上;通过选择合适的下刀点,实现背面圆弧的安全加工。     

基于PXIe总线的数字示波器现场高效校准系统

为提高数字示波器现场校准效率，提出一种可并行校准5台1GHz及以下带宽的数字示波器的软硬件实现方法。按照GJB7691-2012对计量标准装置的要求，每个数字示波器校准通道均需具备直流电压、时标、稳幅正弦波和快沿脉冲4种基本信号输出功能和电阻测量功能。4种信号输出功能及电阻测量功能的模块设计、与被校数字示波器之间的通路设计以及并行校准软件设计是实现现场高效校准的重点。对校准装置的软硬件总体方案进行设计，对装置的主要功能模块实现方法以及并行校准软件设计方法进行了详细描述，设计并行按需校准、并行校准和串行校准试验，试验结果表明此方法可快速、高效地实现数字示波器的并行校准。