菠萝雪梨复合果冻的配方研究

以菠萝和雪梨为原料,通过正交试验对菠萝雪梨复合果冻的加工配方进行了研究.结果表明:复配凝胶剂添加量为0.8%(卡拉胶∶魔芋胶=7∶3),白砂糖添加量12%,柠檬酸添加量0.1%,果肉添加量30%(菠萝∶雪梨=1∶1)时,可制得营养丰富,酸甜适口,香味适宜,口感细腻,爽滑的菠萝雪梨果冻.     

我国第二大水电站溪洛渡电站开工

我国第二大水电站溪洛渡电站工程正式开工，这将是“十五”期间开工的最后一项巨型水电工程。溪洛渡电站位于金沙江下游云南省永善县与四川省雷波县相接壤的溪洛渡峡谷。     

Linux远程GUI访问的应用

您想在Linux系统下远程访问Windows系统,在Windows、UNIX下远程访问Linux系统吗,本文教您如何做。     

SiO_2气凝胶的合成与孔结构表征

采用溶胶-凝胶法结合超临界流体干燥技术制备了SiO2气凝胶,系统地考察了醇硅比、水硅比、体系pH值等制备条件对SiO2气凝胶胶凝时间、孔径分布及孔型结构的影响.结果表明,水硅比对气凝胶的孔径分布和孔型具有较大的影响;水用量增加.胶凝时间延长,气凝胶的孔径分布逐渐变窄,孔型趋于一致.乙醇不参与溶胶-凝胶反应,只对TEOS有助溶和稀释的作用,因此乙醇用量增加,溶胶的胶凝时间延长,但对体系反应的影响相对较小,不会引起气凝胶孔结构的剧烈改变.在较小pH值或弱碱性范围内,pH值对孔形结构的影响也比较小,体系pH值增大,胶凝时间缩短,制得的气凝胶孔径分布较窄,孔型均一.当pH值大于8.5后,不利于气凝胶网络结构的形成和均匀分布,胶凝时间随pH值的增大而延长,制备的气凝胶孔径和孔型分布都比较大.     

腌制剂不同影响中式发酵香肠挥发性成分的组成

利用固相微萃取-气相色谱-质谱联用提取并分析发酵香肠中的挥发性物质,并探讨3 种不同的腌制剂（硝酸钠、亚硝酸钠、亚硝酸钠和抗坏血酸钠）对香肠风味物质,尤其是来源于支链氨基酸的风味成分的影响。结果表明腌制剂确实会对香肠中的风味物质含量产生一定的影响,且硝酸钠作为腌制剂更有利于乙酸乙酯、丁酸、2-丁酮、2-戊酮、2-庚酮、正己醇、正戊醇等风味物质的形成。     

基于PCA降维的HOG与LBP融合的行人检测

行人检测是计算机视觉中十分重要而又有挑战的研究方向。针对梯度方向直方图(HOG)特征描述子的局限性,如冗余信息多、容易造成误检和漏检等,为了进一步提高行人检测的准确率和速度,提出多特征融合的行人检测算法,利用主成分分析(PCA)对HOG进行降维再与局部二值模式(LBP)特征进行融合,使用支持向量机(SVM)进行分类。在INRIA行人数据库上进行测试,实验表明该算法提高了识别率,加快了训练和检测的速度。     

考虑温度积累效应的短期电力负荷预测方法研究

提出了一种考虑夏季温度积累效应的地区短期负荷预测方法。该方法不仅考虑了对短期负荷有影响的日类型、降水、温度等相关因素,并且考虑了在连续高温日情况下,预测日前数日的温度对预测当日的影响。通过利用神经网络工具,对每日48个时刻点分别建立了预测模型。通过对华中某地区电网的实际负荷预测结果的分析来看,该方法可以有效跟踪预测日前数日温度积累对预测日负荷的影响,在夏季负荷大幅变化的情况下,预测精度仍然可以满足要求。     

基于慢波半模基片集成波导的等长等宽小型化移相器

针对基片集成波导移相器小型化、高性能的需求，本文提出了基于慢波半模基片集成波导（Slow-Wave Half-Mode Substrate Integrated Waveguide,SW-HMSIW）的等长等宽小型化移相器.该SW-HMSIW上层金属表面由微带折线单元周期性加载构成，提高了SW-HMSIW的等效介电常数和磁导率，从而降低了SW-HMSIW的截止频率和相速度，实现了慢波效应并获得尺寸的减小.此外，可以通过调节微带折线单元横向和纵向的尺寸，灵活调节SW-HMSIW的相速度和截止频率.基于这一原则，本文设计实现了SW-HMSIW等长等宽小型化移相器，同时它具有较宽的工作带宽.测试结果表明，所设计的移相器在8.7～14.2 GHz内实现了90°±4°的相移量，相对带宽为48%，回波损耗优于12 dB，具有良好的传输性能和移相效果，并且具有小型化和等长等宽结构特点，适用于在大规模阵列天线的应用.     

基于多源异构数据融合的变电站风险评估研究

提出一种基于MapReduce框架下的Hermite正交基前向神经网络数据融合算法。实验将变电站实验数据、巡视数据、监测数据作为基础数据，基于数据融合后的数据进行变电站风险评估以检测数据融合的效果，并与BP神经网络算法进行对此。实验结果表明，提出的算法较BP神经网络算法在融合速度上快2~3倍，且标准误差、平均绝对百分误差较小，即变电站风险评估精度更准确，解决了BP神经网络收敛速度慢、局部极小值、网络不确定的缺点。     

基于薄膜传感器的化学机械抛光面压力分布检测装置研制及应用

光学元件化学机械抛光（CMP）过程中元件与抛光垫之间接触压力分布是影响元件抛光去除效率和抛光效果的关键因素，但因元件、磨料、抛光垫之间的接触状态较复杂、且不停变化，难以通过仿真计算获得。为了研究确定性抛光去除机理，设计了一套CMP面压力分布在位实时检测装置，将薄膜压阻传感器阵列式布置于抛光垫下，对元件与抛光垫接触面的压力分布展开实时检测，并通过仿真分析抛光垫与元件表面接触压力分布理论模型，与实测结果进行对比。基于自主搭建的实验平台，模拟工况进行研磨实验，并使用基恩士CL-3000激光位移传感器测量抛光垫面形。实验结果表明：随着研磨时间增加，抛光垫面形逐渐平整并接近当前研磨条件下的极限，其标准差由0.2079 mm降低为0.1839 mm，使用压力分布检测装置测得区域压力值标准差第一阶段下降8.2%，第二阶段下降0.2%，工件与抛光垫接触面压力分布逐渐均匀，与抛光垫面形逐渐平整的趋势相对应，证明该装置可以有效检测抛光过程中的压力分布及实时变化。