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三峡工程三期截流提前到 2 0 0 2年 11月上旬进行 ,截流难度显著增大。为了使截流工程顺利进行 ,以先进的计算机可视化技术为基础 ,采用IMAGIS软件生成三维地形图 ,用Creator建模形成导流明渠、纵向围堰及三期围堰等三维实体模型 ,最后通过运用虚拟现实技术 ,开发出三峡工程三期截流施工实时动态演示、查询系统。该系统能根据需要实现漫游 ,可以随意定位到感兴趣的区域作细部观察 ,且具有良好的交互性。通过施工仿真研究 ,将三期截流施工过程生动地显示在屏幕上 ,用以指导施工组织管理 ,为三期截流的决策和控制提供了有效的工具 相似文献
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Dong-Soo Yoon Jae Sung Roh Sung-Man Lee Hong Koo Baik 《Journal of Electronic Materials》2003,32(8):890-898
The effect of a thin RuOx layer formed on the Ru/TiN/doped poly-Si/Si stack structure was compared with that on the RuOx/TiN/doped poly-Si/Si stack structure over the post-deposition annealing temperature ranges of 450–600°C. The Ru/TiN/poly-Si/Si
contact system exhibited linear behavior at forward bias with a small increase in the total resistance up to 600°C. The RuOx/TiN/poly-Si/Si contact system exhibited nonlinear characteristics under forward bias at 450°C, which is attributed to no
formation of a thin RuOx layer at the RuOx surface and porous-amorphous microstructure. In the former case, the addition of oxygen at the surface layer of the Ru film
by pre-annealing leads to the formation of a thin RuOx layer and chemically strong Ru-O bonds. This results from the retardation of oxygen diffusion caused by the discontinuity
of diffusion paths. In particular, the RuOx layer in a nonstoichiometric state is changed to the RuO2-crystalline phase in a stoichiometric state after post-deposition annealing; this phase can act as an oxygen-capture layer.
Therefore, it appears that the electrical properties of the Ru/TiN/poly-Si/Si contact system are better than those of the
RuOx/TiN/poly-Si/Si contact system. 相似文献
75.
阴,阳离子聚合物地层内凝胶化改善水驱效果的研究 总被引:9,自引:1,他引:8
研究了一杆阴离子聚合物(Ac530)和一种阳离子聚合物(Mb581)在水溶液中形成凝胶的条件和过程、凝胶化学结构、形态、稳定性和力学性能。在模拟地层的二维微观模型内观测了两种聚合物驱替渗流、相逼、形成凝胶、凝胶封堵大孔道的机理。在亲水填砂模型内测定了阴、阳离子聚合物凝胶体系降低渗透率的能力。 相似文献
76.
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小剂量辐射对肿瘤细胞K_(562)及肿瘤病人天然杀伤细胞(NK)活性的影响 总被引:2,自引:0,他引:2
已知小剂量辐射可增强机体免疫功能。从对高本底地区的调查发现,该地区居民肿瘤死亡率及某些肿瘤发病率有所降低(1)。NK细胞能直接杀伤肿瘤细胞,在肿瘤免疫中起着重要的作用。本文观察小剂量辐射对肿瘤病人和正常人外周血淋巴细胞NK活性的相对效应以及对人红白血病细胞(K(562)细胞)的影响,以期从体外买验来探索较小剂量辐射对肿瘤治疗的影响 相似文献
78.
田敬民 《固体电子学研究与进展》1996,16(3):284-288
采用静电喷雾高温分解工艺制备SnO2气敏膜,并与Si3N4-SiO2集成多层介质膜,用催化金属Pt作栅电极,制成新型的MSIS结构气敏电容。通过检测平带电压的变化,研究对H2和O2的气敏特性,分析其气敏机理并提出了检测的物理模型. 相似文献
79.
80.
Ting Gang Zhu Uttiya Chowdhury Michael M. Wong Jonathan C. Denyszyn Russell D. Dupuis 《Journal of Electronic Materials》2002,31(5):406-410
In this paper, we report the study of the electrical characteristics of GaN and AlGaN vertical p-i-n junctions and Schottky
rectifiers grown on both sapphire and SiC substrates by metal-organic chemical-vapor deposition. For GaN p-i-n rectifiers
grown on SiC with a relatively thin “i” region of 2 μm, a breakdown voltage over 400 V, and forward voltage as low as 4.5
V at 100 A/cm2 are exhibited for a 60-μm-diameter device. A GaN Schottky diode with a 2-μm-thick undoped layer exhibits a blocking voltage
in excess of ∼230 V at a reverse-leakage current density below 1 mA/cm2, and a forward-voltage drop of 3.5 V at a current density of 100 A/cm2. It has been found that with the same device structure and process approach, the leakage current of a device grown on a SiC
substrate is much lower than a device grown on a sapphire substrate. The use of Mg ion implantation for p-guard rings as planar-edge
terminations in mesageometry GaN Schottky rectifiers has also been studied. 相似文献