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991.
Modeling of stress and electromigration at the microscopic level, in confined interconnect metallic lines with tungsten studs, can very well account for the resistance behaviour in time. The resistance change at saturation for a metallic line with blocking boundaries at both ends can be related, according to the model, to threshold product (jL)c found by Blech [1].  相似文献   
992.
993.
994.
995.
The vapor pressures of theβ-diketonates Y(THD), Ba(THD), and Cu(THD), commonly used as precursors for MOVPE of YBa2Cu3O7, and Y(MCP) were measured at different temperatures. A time-resolved static method recording the pressure vs. time at constant temperature was used, permitting us to deduce the vapor pressure even if the materials tend to decompose. The values of the constants of the Clausius-Clapeyron equation log10p(T)/p 0=A-B/T are,A=11.7, 8.7, 8.27, 16.6 andB=4359, 2654, 3602, and 6453 K for Y(THD), Y(MCP), Ba(THD), and Cu(THD), respectively withp 0= 1 Pa and temperatureT in K. The thermal stability of the sources was measured and are discussed.  相似文献   
996.
997.
998.
A. A. Baikov Institute of Metallurgy, Moscow. Ulyanovsk Polytechnic Institute. Translated from Metallovedenie i Termicheskaya Obrabotka Metallov, No. 4, pp. 22–25, April, 1992.  相似文献   
999.
1000.
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