展成式精密电火花加工机床

研制了一种展成式精密电火花加工机床，它含有3个回转机构和4个直线移动机构，工件苡轴，工具电极苡轴和转台均可按需要回转，坐标工作台可作纵向和横向移动，工件头架可作轴向和竖向移动。可设置成多种复合运动方式和相应的结构布局，具有很丰富的加工功能，加工精度能达到微米级并实现电火花镜面加工。     

C/O能谱测井数据预处理的两点改进意见

简单介绍了碳氧比测井的原理及通常的数据处理方法。分析了由常规数据处理所得曲线仍然存在的问题及可能的成因 ,并给出了可行的修正办法。讨论了另一种可行的曲线异常数据的检测、剔除方法。实践表明 :文章讨论的两点建议都是可行的 ,并且在提高测量曲线质量的同时也提高了地层含油饱和度的解释精度。     

A concise process technology for 3-D suspended radio frequency micro-inductors on silicon substrate

In this letter, a concise process technology is proposed for the first time to enable the fabrication of good quality three-dimensional (3-D) suspended radio frequency (RF) micro-inductors on bulk silicon, without utilizing the lithography process on sidewall and trench-bottom patterning. Samples were fabricated to demonstrate the applicability of the proposed process technology.     

栲胶法变换气脱硫工艺

介绍了栲胶法脱硫的原理，工艺流程及规整填料在脱硫塔中的应用。     

可靠性试验样本量和截尾时间的计算

可靠性寿命试验中，一般都因受到费用和时间的限制，因此要用截尾试验获得信息，再据此对其可靠性进行统计推断，用非参数估计的方法探讨了进行可靠性试验的样本量或截尾时间的估计方法。     

高质量ZnO薄膜的退火性质研究

在LP－MOCVD中，我们利用Zn(C2H5)2作Zn源，CO2作氧源，在（0002）蓝宝石衬底上成功制备出皮c轴取向高度一致的ZnO薄膜，并对其进行500℃-800℃四个不同温度的退火。利用XRD、吸收谱、光致发光谱和AFM等手段研究了退火对ZnO晶体质量和光学性质的影响。退火后，（0002）ZnO的XRD衍射峰强度显著增强，c轴晶格常数变小，同时（0002）ZnOX射红衍射峰半高宽不断减小表明晶粒逐渐增大，这与AFM观察结果较一致。由透射谱拟合得到的光学带隙退火后变小，PL谱的带边发射则加强，并出现红移，蓝带发光被有效抑制，表明ZnO薄膜的质量得到提高。     

基于规则的光学邻近矫正中规则的相关处理

讨论了如何选择适当的规则,如何建立简洁实用的规则库,如何应用规则库.提出了四种主要的光学邻近矫正规则,在实验结果中列举了规则库中的部分数据.利用规则矫正后的版图光刻得到的硅片图形有了明显的改善.规则库的自动建立部分 (OPCL)是基于规则的光学邻近矫正系统的重要组成部分.     

激光晶体Nd:YVO4的形貌及生长缺陷

本文报道了应用环境扫描电镜（ESEM）和同步辐射X射线白光形貌术对采用提拉法生长出的Nd:YVO4晶体进行的形貌及生长缺陷的分析,获得了该晶体的开裂表面的ESEM形貌像以及取自晶体肩部和中间部位的（001）面的同步辐射白光形貌像,观察到了位错、包裹物等缺陷,可为生长高质量的Nd:YVO4晶体提供重要的启示.     

焊接领域中 AutoCAD的二次开发

应用AutoCAD已有的二次开发工具:AutoLISP、块和形定义及菜单开发对CAD在焊接领域应用进行了开发与定制。