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91.
采用固源分子束外延(SSMBE)生长技术,用不同的蒸发速率,在Si(111)衬底上生长SiC薄膜。利用反射式高能电子衍射(RHEED)、X射线衍射(XRD)、原子力显微镜(AFM)等实验技术,对生长的样品的形貌和结构进行研究。结果表明,在优化的蒸发速率(1.0 nm·min^-1)下,所生长的薄膜质量最好。低的蒸发速率(0.25 nm·min^-1)难以抑制孔洞的形成,衬底的Si原子可通过这些孔洞扩散到样品表面,导致结晶质量变差。在高的蒸发速率(1.8 nm·min^-1)下,以岛状方式生长甚至以团簇聚集,表面的原子难以迁移到最佳取向的平衡位置,导致样品表面粗糙度变大,薄膜的结晶质量变差,甚至出现多晶。 相似文献
92.
93.
在衬底温度为1000℃条件下, 利用固源分子束外延(SSMBE)技术在Si衬底上生长3C-SiC单晶薄膜. RHEED结果显示在Si(111)上所生长的SiC薄膜为3C-SiC, 并与衬底的取向基本一致. 采用同步辐射掠入射X射线衍射(GID)技术并结合常规X射线衍射(XRD)研究了SiC薄膜内的应变和晶体质量. 常规衍射的联动扫描曲线得到薄膜处于双轴张应变状态. 3C-SiC薄膜和Si衬底的晶格失配和热膨胀系数失配是导致双轴张应变的原因. 根据不同角度的掠入射衍射Phi扫描的摇摆曲线结果, 发现薄膜晶体质量在远离SiC/Si界面区变好. 这是由于SiC薄膜中的缺陷随着远离界面逐渐减少的原因. GID和XRD的摇摆曲线结果表明薄膜中镶嵌块的倾斜大于扭转, 表明SiC薄膜在面内的晶格排列要比垂直方向更加有序. 相似文献
94.
95.
用带式过滤机取代了传统的低效率固液分离设备。在使用中逐步改进了滤布、缝接方式、分布板、刮刀以及操作制度等。 相似文献
96.
97.
98.
99.
文章介绍了磐石镍矿冶炼厂近年来的主要技术经济指标及镍冶炼工艺的特点,诸如不外加熔剂,电炉用单台三相变压器,干燥窑用沸腾床燃烧劣质煤,镍转炉烟气制酸等。 相似文献
100.
刘忠良 《有色金属(冶炼部分)》1989,(5):9-12
文章介绍了招远黄金冶炼厂从多金属硫化物金精矿提取黄金及其他有价金属的工艺流程及其特点,并指出有待解决的几个问题。 相似文献