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671.
针对某厂上料卷扬机由于设计配套不合理,严重影响生产的正常运行的问题,阐述了改造上料卷扬机传动比,提高上料能力,达到理想效果的设计经验.  相似文献   
672.
基于椭圆曲线的数字签名   总被引:1,自引:0,他引:1  
数字签名是信息安全核心理论之一,已成为实现信息认证和身份识别的关键技术。基于椭圆曲线的数字签名系统是目前主流的数字签名系统之一,并且被认为是经典的RSA系统的最佳替代者。给出了一种基于椭圆曲线密码体制的数字签名方案,从计算安全性上说该方案是安全的,并具有一定的实用价值。  相似文献   
673.
黑河上游梯级水库联合调度研究   总被引:2,自引:0,他引:2  
黑河上游梯级水库的蓄水运行严重影响了黑河水量统一调度,为了有效解决这一矛盾,有必要实施梯级水库联合调度.本文在研究实施梯级水库联合调度必要性的前提下,分析了梯级水库联合调度关键问题,在此基础上,根据"以水量调度为主,梯级水库联合调度为辅"思想建立梯级水库联合水量调度模型;同时,为了定量研究实施梯级水库联合水量调度对梯级水库发电的影响,建立了梯级水库联合发电调度模型.结合两种不同模型,选取设计平水年进行优化计算,结果表明,闭口期梯级水库在水量调度期间增加下泄水量的同时,发电量较发电调度时偏小;关键调度期梯级水库发电量比发电涮度时减少0.13亿kW·h,下泄水量比发电调度时多下泄0.34亿m3.可以看出,调水目标和发电目标是不可调和的,只有在梯级水库管理部门和水量调度管理部门的协调下,才能最终有效的解决.  相似文献   
674.
在城市自然资源管理信息化建设中,不同管辖级别的用户应具备不同的数据浏览、管理的权限,为了实现用户使用电子地图时的范围控制,对多种电子地图显示范围控制方法进行了研究分析,并在实践中设计了一种"CSS不规则遮罩"的控制方法,总结了各类方法的优劣和使用场景,为电子地图权限的应用提供借鉴与参考.  相似文献   
675.
标准化就是为了在一定范围内获得最佳秩序,对现实问题或潜在问题制定共同使用和重复使用的条款的活动。标准化是一项有组织、有计划开展的活动过程,就是编制、发布和实施标准的过程。这个过程随着标准的修订不断循环,螺旋式上升,每完成一次循环,就使标准化水平提高一步。  相似文献   
676.
华斌  张洪波  何晓 《计算机工程》2011,37(2):188-190
在FCMBP算法中,高阶模糊等价标准型的平移等价类数据库缺少一个高效的生成算法,且每一个模糊等价标准型的平移等价类需要定义相应的相似参数系等价类,过程繁琐。为解决上述问题,提出由低阶向高阶自动生成模糊等价标准型矩阵的平移等价类数据库的算法以及生成相应相似参数系的等价类的算法。通过实例验证该算法较好地解决了高阶模糊等价标准型的平移等价类数据库的自动生成问题。  相似文献   
677.
对铝合金化TRIP钢开展焊接试验,研究了冷却速度对焊缝熔合区的组织和显微硬度的影响,结果表明,熔合区均含有骨骼状的铁素体(δ),熔合区冷却速度的变化没有改变铁素体为初生相的凝固特征,但会影响熔合区组织的相对含量以及尺寸,硬度则随着冷却速度的增大而增大,且与马氏体的理论硬度值的差值逐步减小。  相似文献   
678.
采用交流阻抗技术结合恒电流阴极充氢和动态阴、阳 极极化法,研究了工业纯钛在海水中的阴极极化性能.结果表明:极化曲线所表现的lgI~E关系与交流阻抗法得出的lg(Rp)~-E关系和lg(Cd)~-E关系有对应性;交流阻抗的结果更直接地反映工业纯钛在海水中阴极极化后的表面状态变化,极化电阻Rp随着阴极电位的增大,呈下降趋势,微分电容Cd随着阴极电位的增大,呈上升趋势.充氢后的钛阳极溶解电流增大.  相似文献   
679.
在制作完底电极的LaAlO3(100)衬底上,利用磁控溅射法制备了一层BaO-Nd2O3-Sm2O3-TiO2(BNST)系薄膜,再对薄膜进行退火处理.X线衍射仪(XRD)分析表明,经退火处理的BNST薄膜结晶效果良好.采用薄膜电容结构来实现电容的测量,主要研究了BNST薄膜电容的频率特性.阻抗分析测试和矢量网络分析测试表明,在测试频率为1 MHz时,介电常数为58.3,介电损耗小于2%;在1 GHz的测试频率下,介电常数为57.5,介电损耗小于3%.研究表明,制备的BNST薄膜的频率特性稳定,基本满足微波频率下使用的要求.  相似文献   
680.
高纯氧化铝陶瓷基材广泛应用于精密电阻、微波集成电路等高端领域。为了获得具有超高平整度、纳米级表面质量的高纯氧化铝陶瓷基材,采用机械抛光(精研)与化学机械抛光(CMP)(精抛)相结合的工艺路线,系统研究了精研过程中的压力、转速、磨料的粒径、抛光液流速及CMP过程中的抛光压力、转速等工艺参数对抛光效果的影响。结果表明,精研压力为588 N,上、下研磨盘转速分别为45和50 r/min,多晶金刚石研磨液的粒径为1μm,磨料添加速率为1.5 mL/min,精研时长达到2.5 h时,陶瓷基材即可达到抛光工序的表面质量要求。抛光压力为588 N,上、下研磨盘转速分别为20和25 r/min,硅溶胶抛光液粒径为80 nm,抛光2 h时,高纯氧化铝陶瓷基材的表面粗糙度可达到纳米级别。  相似文献   
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