全文获取类型
收费全文 | 303篇 |
免费 | 15篇 |
国内免费 | 179篇 |
专业分类
电工技术 | 7篇 |
综合类 | 16篇 |
化学工业 | 27篇 |
金属工艺 | 4篇 |
机械仪表 | 50篇 |
建筑科学 | 13篇 |
矿业工程 | 21篇 |
能源动力 | 5篇 |
轻工业 | 42篇 |
水利工程 | 5篇 |
石油天然气 | 19篇 |
无线电 | 235篇 |
一般工业技术 | 18篇 |
冶金工业 | 7篇 |
原子能技术 | 2篇 |
自动化技术 | 26篇 |
出版年
2024年 | 5篇 |
2023年 | 7篇 |
2022年 | 13篇 |
2021年 | 9篇 |
2020年 | 6篇 |
2019年 | 12篇 |
2018年 | 15篇 |
2017年 | 4篇 |
2016年 | 8篇 |
2015年 | 13篇 |
2014年 | 11篇 |
2013年 | 11篇 |
2012年 | 11篇 |
2011年 | 5篇 |
2010年 | 11篇 |
2009年 | 20篇 |
2008年 | 20篇 |
2007年 | 25篇 |
2006年 | 25篇 |
2005年 | 34篇 |
2004年 | 22篇 |
2003年 | 18篇 |
2002年 | 13篇 |
2001年 | 25篇 |
2000年 | 43篇 |
1999年 | 14篇 |
1998年 | 12篇 |
1997年 | 11篇 |
1996年 | 13篇 |
1995年 | 6篇 |
1994年 | 5篇 |
1993年 | 1篇 |
1992年 | 1篇 |
1991年 | 2篇 |
1990年 | 8篇 |
1989年 | 8篇 |
1988年 | 7篇 |
1987年 | 7篇 |
1986年 | 4篇 |
1985年 | 1篇 |
1983年 | 2篇 |
1982年 | 4篇 |
1981年 | 2篇 |
1980年 | 1篇 |
1978年 | 1篇 |
1976年 | 1篇 |
排序方式: 共有497条查询结果,搜索用时 46 毫秒
31.
本文报道了可用于光网络系统终端OADM和OXC的Si基长波长量子阱窄带响应光电接收器、MOEMS和F-P
TO宽频域光学滤波器、M-Z型 TO光开关和MMI多路分束器以及可变光强衰减器.用应变层SiGe/Si
MQW研制的RCE光电接收器响应谱半宽FWHM<6nm,外量子效率η>4.2%;采用表面微机械加工的桥式光学滤波器,当外加电压0→50V,连续可调谐范围达90nm;彩全平面工艺研制的F-P腔TO滤波器,当外加电流0→57mA时,连续可调谐范围达23nm,FWHM<0.5nm.在SOI
Si基片上研制的M-Z TO波导光开关,开关时间<30μs,功耗~100mW.开关消光比为-13dB和-10dB,1×4MMI多路分束器输出光声的不均衡性<0.36dB,总插入损耗为6.9dB.用背向对接的MMI构成的M-Z干涉仪实现了光强的可变调最大衰减量26dB,响应时间为100μs,插入损耗为4.8~7dB. 相似文献
32.
33.
34.
采用简单的双台面工艺制作了完全平面结构的5个单元、10个发射极指大面积的SiGe HBT.器件表现出了良好的直流和高频特性,最大电流增益β为214.BVCEO为9V,集电极掺杂浓度为1×1017 cm-3,厚度为400nm时,BVCBO为16V.在直流偏置下IC=30mA,VCE=3.0V得到fT和fmax分别为18.0GHz和19.3GHz,1GHz下最大稳定增益为24.5dB,单端功率增益为26.6dB.器件采用了新颖的分单元结构,在大电流下没有明显的增益塌陷现象和热效应出现. 相似文献
35.
评述硅基光子材料和器件的进展,包括硅二极管的受激发射、具有量子结构的RCE(谐振腔增进型)光电二极管、MOS高频光调制器、SOI光开关阵列和可调谐波长滤波器,重点介绍低插入损耗、快响应的SOI基热光波导开关阵列的最新结果.以SOI为基片,成功地研制出带有全内反射(TIR)镜的重排无阻塞型光开关阵列,并首次研制出16×16阻塞型光开关阵列.在1.55μm波段,插入损耗和偏振相关性随着器件长度的增加而略微增大.如果器件的末端镀上抗反射膜,插入损耗会降低2~3dB,这些器件的上升和下降时间分别为2.1和2.3μs. 相似文献
36.
评述硅基光子材料和器件的进展,包括硅二极管的受激发射、具有量子结构的RCE(谐振腔增进型)光电二极管、MOS高频光调制器、SOI光开关阵列和可调谐波长滤波器,重点介绍低插入损耗、快响应的SOI基热光波导开关阵列的最新结果.以SOI为基片,成功地研制出带有全内反射(TIR)镜的重排无阻塞型光开关阵列,并首次研制出16×16阻塞型光开关阵列.在1.55pm波段,插入损耗和偏振相关性随着器件长度的增加而略微增大.如果器件的末端镀上抗反射膜,插入损耗会降低2~3dB,这些器件的上升和下降时间分别为2.1和2.3μs. 相似文献
37.
38.
1.55μm非晶硅热光F-P腔可调谐滤波器 总被引:1,自引:2,他引:1
介绍了一种Si基热光Fabry Perot (F P)腔可调谐滤波器.F P腔由电子束蒸发的非晶硅构成.利用非晶硅的热光效应,通过对Si腔加热,改变F P腔的折射率,从而引起透射峰位的红移.该原型器件调谐范围为1 2nm ,透射峰的FWHM (峰值半高宽)为9nm ,加热效率约为0 1K/mW .精确控制DBR(分布式Bragg反射镜)生长获得高反射率镜面是减小带宽的有效途径;通过改进加热器所处位置及增强散热能力,有望进一步提高加热效率 相似文献
39.
40.