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101.
102.
文中介绍的是400~700℃之间在基体上生长TiN膜的一种新方法,由TiCl4和NH3通过化学气相沉积形成膜,生长速度已达到0.1μm/s。这种方法用途广泛,测量了膜的光学性质,并用Drude理论对得到膜的等离子频率进行了理论上的分析,根据MaxwellGarnett改进的Drude理论解释了较薄的膜在IR区反射率的降低,对膜在热镜上和其它方面的应用进行了讨论。 相似文献
103.
从热力学分析中论述了TiCl3与N2在低温下反应形成TiN的可行性、并通过TiCl3的制备及沉积试验,在450-600℃温度范围内在钢基材上获得了TiN的涂层。文中对实验装备与试验过程作了简介,对钢基工模具上应用TiN涂层将起到积极作用。 相似文献
104.
105.
采用聚焦离子束方法制备试样,利用最高加速电压为1 300 kV的高分辨电镜观察钒-钛微合金化钢100 kJ/cm大线能量热模拟焊接热影响区,对作为晶内铁素体形核核心的夹杂物形貌与结构及夹杂物与晶内铁素体界面关系进行了研究.结果表明,晶内铁素体在MnS V(C,N)复合夹杂物相上形核析出,夹杂物和晶内铁素体存在确定的晶体学位向关系. 相似文献