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反应气体对纳米金刚石薄膜的显微力学特性影响 总被引:1,自引:0,他引:1
本文采用电子辅助增强热丝化学气相沉积(HFCVD)系统,CH4/H2、CH4/H2/Ar气体和不同比例的四种气氛制备了纳米金刚石薄膜,利用Raman光谱和原子力显微镜(AFM)表征了薄膜的结构和显微形貌,采用纳米压入测试技术测量了纳米金刚石薄膜的显微力学特性,获得了加载、卸载曲线,以及硬度和模量随压入深度的变化曲线。结果表明:薄膜具有明显的纳米结构特点,随着CH4、Ar浓度的增加,晶粒更加细化,表面粗糙度更低。无Ar气氛制备的纳米金刚石薄膜的弹性恢复较好,硬度和模量较高,CH4和Ar含量越低的制备气氛,其硬度和模量相对较高。 相似文献
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对贮氢压力系统,基于氦质谱仪的氢检测模式,提出了采用系统自带氢气作为示踪气体的氢质谱检漏方法。为验证该方法的有效性,开展了低漏率通道型漏孔研制,通过金属毛细管挤压、固定的方式制作了常压下氦漏率在10~(-6)~10~(-8)Pa·m~3/s量级范围的通道型漏孔,采用氦质谱检漏技术监测了部分漏孔漏率随时间变化情况,监测结果表明,该方法可以制备漏率稳定的漏孔。基于研制漏孔,利用质谱仪的氢、氦检测模式获得了对应氢、氦示踪介质的漏率。通过对氢、氦漏率值的对比分析发现:当漏孔氦漏率在10~(-7)Pa·m~3/s量级及以上时,氢模式下的氢漏率稳定,约为氦检漏模式下氦漏率的2~5倍;但随着漏孔漏率进一步减小,采用现有质谱仪的氢检测模式将无法获得有效漏率值。 相似文献
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掺硼金刚石膜由于具有金属的电导率,在电学和电化学领域已显示出广阔的应用前景。在掺硼金刚石膜的制备工艺中,掺硼浓度对金刚石膜形貌具有一定影响。通过采用自制的热丝CVD金刚石沉积设备,采用三氧化二硼固体源制备掺硼金刚石膜,在其他工艺参数一致的情况下,改变硼源量制备不同掺硼浓度的金刚石膜,通过SEM分析掺硼浓度对金刚石膜的形貌影响,并对其机理进行了分析。实验结果显示:随着掺硼浓度的增加,由于硼原子可促进金刚石的形核,使金刚石形核密度增加,导致晶体颗粒向均匀、细小的方向变化;进一步增加掺硼浓度后,由于硼原子促进邻近金刚石颗粒的联结,晶体颗粒又向粗大、尺寸分布不均匀的方向变化。 相似文献
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本文针对红外光学材料对宽波段透过的要求,采用HFCVD法在硅基体上制备了红外增透的金刚石薄膜.设计了高红外透过率的膜系结构,探讨了基体处理方式、单面、双面涂层工艺和厚度对红外透过率的影响,并给出了相关的光谱测试结果和金刚石薄膜的微观形貌、结构表征.结果表明:双面涂层金刚石薄膜工艺具有优异的双波段红外性能,在3.0~5.... 相似文献
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