电子和中子辐照n型6H-SiC的光致发光谱

对用电子能量为1.7,0.5和0.4MeV的电子辐照和中子辐照后的n型6H-SiC样品进行低温光致发光研究.对于Ee≥0.5MeV电子辐照和中子辐照后的样品,首次发现了位于478.6/483.3/486.1n m的S1/S2/S3谱线.对样品进行热退火研究表明S1/S2/S3谱线在500℃下消失,而退火温度高于700℃时D1中心出现.考虑到产生C空位和Si空位所需的位移阈能以及热退火行为,说明S1/S2/S3为初级Si空位初级缺陷,而D1中心为二次缺陷.     

工作气压对室温磁控溅射CIGS膜的影响

研究了工作气压对磁控溅射法制备CIGS薄膜的影响,采用X射线衍射,扫描电镜,X射线萤光光谱和X射线能量色散谱分析了膜层的组织和成分.研究发现,工作气压升高,薄膜沉积速率降低.当工作气压低于0.2Pa时,薄膜致密均一;高于0.2Pa表面出现Cu2-xSe相,并随气压升高在膜表面的覆盖面积增大.对气压影响薄膜表面形貌的机理采用成膜动力学理论进行了讨论.     

气力输送测定方法应用

试验测定对开展气力输送研究、提高气力输送技术水平有重大意义，作者着重介绍一些可用于粮食气力输送的测定方法。     

基于计算机视觉的自动浇注系统

提出一种基于计算机视觉的自动浇注系统。长期以来,由于没有有效的方法测量浇口杯内的铁水液位,浇注一般都是用人工控制。自动浇注系统是采用摄像机拍摄浇注过程,经过图像采集和处理,计算出浇口杯内铁水液位高度,通过实时控制铁水的浇注流量,使浇口杯内液位按工艺维持在一定高度,从而实现了自动浇注。实验证明此系统控制性能良好。     

射频溅射工艺参数对AZO薄膜结构和性能的影响

采用射频磁控溅射法制备了掺铝氧化锌(AZO)薄膜,研究了衬底温度及溅射工作压强对沉积薄膜的晶体结构、表面形貌及电学性能的影响。结果显示,随衬底温度增加,薄膜的结晶结构发生显著变化,而溅射工作气压增加主要影响沉积薄膜(103)面与(002)面的相对强度。薄膜的表面形貌受温度影响严重,而气压对形貌的影响相对较小。衬底温度增加,薄膜的电阻率急剧降低,迁移率和载流子浓度都显著增加,而工作气压增加则导致电阻率先减小后增大。     

非晶CIGS前驱膜无硒退火的相变历程

采用一步射频磁控溅射法在室温获得了CIGS薄膜,研究了不同的真空无硒退火温度(150～350℃)对CIGS薄膜相变历程的影响。薄膜相变历程中的结构和性能采用XRD、SEM、EDS、紫外-可见光吸收和四探针等测试手段进行测试表征。结果表明,室温下制备的CIGS薄膜为非晶态,随退火温度升高发生非晶CIGS→CuSe→CIGS的相变。150℃退火形成的CuSe薄膜的电阻率最低,光透过性能最差。退火温度超过200℃便生成CIGS相,CIGS相的结晶质量随退火温度升高而改善,薄膜的电阻率和光透过率也随退火温度的提高而增加。     

核桃生产技术及病虫害防治

文章阐述了核桃生长发育对环境条件的要求,栽植核桃的生态效益和经济效益,提出了核桃丰产栽植技术,希望对农民发展核桃种植业具有指导意义。     

一种新的分布式控制系统的仿真调试方法

一种新的分布式控制系统的仿真调试方法余洲，潘俊民ＡＮｅｗＥｍｕｌａｔｉｏｎＤｅｂｕｇＳｔｒａｔｅｇｙｆｏｒｔｈｅＤｉｓｔｒｉｂｕｔｅｄＣｏｎｔｒｏｌＳｙｓｔｅｍ￥ＹｕＺｈｏｕ；ＰａｎＪｕｎｍｉｎｌ引言分布式控制系统充分利用了当前流行的毛ｃ技术（Ｃｏｍ...     

溅射功率对In2S3薄膜结构及其性能的影响

采用磁控溅射法,在玻璃基底上一步沉积In2S3薄膜.研究了溅射功率对In2S3薄膜的成分、结构、表面形貌和光电性能的影响.结果表明:所制备的所有薄膜均为β-In2S3,无杂相存在,且具有(222)面择优生长特性.溅射功率对薄膜的成分、厚度和结晶度具有明显的影响,并因此影响薄膜的光学和电学性能.薄膜在100 W沉积时最接近化学计量比,薄膜的透过率随着溅射功率增大在500 nm波段附近显著提高,禁带宽度达到2.45 eV,同时电流密度增大两个数量级.     

Q立方

Q立方时尚餐厅选址位于人流密集的商业地带。出品介于快餐与正餐之间，兼丰富的休闲饮品。特别针对该商业流动消费群体及附近店铺年轻的职员。