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A complete and accurate surface potential based large-signal model for compound semiconductor HEMTs is presented. A surface potential equation resembling the one used in conventional MOSFET models is achieved. The analytic solutions from the traditional surface potential theory that developed in MOSFET models are inherited. For core model derivation, a novel method is used to realize a direct application of the standard surfacepotentialmodelofMOSFETsforHEMTmodeling,withoutbreakingthemathematicstructure.Thehigh-order derivatives of I–V /C–V remain continuous, making the model suitable for RF large-signal applications. Furthermore, the self-heating effects and the transconductance dispersion are also modelled. The model has been verified through comparison with measured DC IV, Gummel symmetry test, CV, minimum noise figure, small-signal Sparameters up to 66 GHz and single-tone input power sweep at 29 GHz for a 475 m0.1 m InGaAs/GaAs power pHEMT, fabricated at a commercial foundry. 相似文献
112.
近日,沃特世(NYSEWAT)公司推出新型Waters ACQUITY UPLC I-Class系统.该系统是目前为止所设计的最高效的UPLC系统,它将分离技术推向了新台阶。 相似文献
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116.
当MOS集成电路进入纳米特征尺寸,随机掺杂波动对集成电路性能至关重要,因此实现适应纳米工艺的MOSFET电流失配模型以早期预测器件性能显得十分迫切。本文研究了随机掺杂波动引起的阈值电压和有效迁移率变化的表达式,并应用一个经过改进的适用于65纳米工艺ALPHA律平均电流模型,通过HSPICE仿真的数据拟合并提取相关工艺参数,应用偏离传递公式实现了随机掺杂波动引起的MOSFET漏电流失配模型。在测试条件下,该失配模型计算的标准差与HSPICE的100次蒙特-卡罗仿真结果相比显示相对误差平均值为0.24%,相对标准差为0.22%。表明该失配模型有效分析了随机掺杂波动引起的物理传导机制,简单又能保证精度。 相似文献
117.
This paper investigates the effect of a non-uniform gate-finger spacing layout structure on the avalanche breakdown performance of RF CMOS technology.Compared with a standard multi-finger device with uniform gate-finger spacing,a device with non-uniform gate-finger spacing represents an improvement of 8.5%for the drain-source breakdown voltage(BVds) and of 20%for the thermally-related drain conductance.A novel compact model is proposed to accurately predict the variation of B Vds with the total area of devices,which is dependent on the different finger spacing sizes.The model is verified and validated by the excellent match between the measured and simulated avalanche breakdown characteristics for a set of uniform and non-uniform gate-finger spacing arranged nMOSFETs. 相似文献
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