TiO2纳米管阵列薄膜光电协同降解亚甲基蓝的研究

使用阳极氧化法制备了TiO₂/Ti纳米管阵列薄膜材料. TiO₂纳米管管孔分布均匀,管径约为80~90nm,平均管长约为1.8μm. 在400℃下煅烧2h后,TiO₂纳米管阵列为锐钛矿型,并且结构保持良好,没有出现变形、剥落的现象. 以TiO₂/Ti纳米管阵列薄膜材料为光催化剂,同时施加0~+3.0V范围内变化的电场,考察了外加电压对降解亚甲基蓝光电协同效率的影响. 结果表明在外加+1.4V电压的条件下,光电协同效率达到124%. TiO₂纳米管阵列与基底Ti板结合牢固,多次重复使用后没有发现降解率的明显变化.     

支持向量机在砂磨分散主要参数研究中的应用

通过砂磨提高纳米二氧化钛在水中分散的效果,并用沉降实验测定了分散情况.通过支持向量机、偏最小二乘法、多元线性回归等算法和人工神经网络算法对实验数据进行拟合分析,在此基础上研究了纳米二氧化钛分散效果与砂磨各项参数的关系,建立了有关砂磨分散各项主要参数的数学模型.实验结果发现支持向量机算法的预报误差比其它方法低一个数量级,能够更好地指导实验.     

低共熔化合物辅助化学沉淀法制备NiO纳米晶体

以Ni(NO3)2和NH4HCO3为原料,用化学沉淀法制备出的前驱体,经加入低共熔混合物煅烧后,得到粒度分布均匀、分散性较好的立方相纯NiO纳米晶体,平均粒度约为25nm.考察了低共熔混合物的加入对NiO粒度和形貌的影响情况,并初步探讨了低共熔混合物在纳米NiO制备过程中的作用机理.     

纳米光催化降解塑料的研究进展

纳米光催化技术在降解塑料领域表现出巨大的潜力。综述了国内外纳米光催化降解塑料的研究进展,介绍了纳米光催化技术应用于降解塑料领域的机理,并对今后的发展方向进行了展望。     

纳米压印光刻胶

光刻胶是纳米压印的关键材料,其性能将影响压印图形复制精度、图形缺陷率和图形向底材转移时刻蚀选择性。提出了成膜性能、硬度黏度、固化速度、界面性质和抗刻蚀能力等压印光刻胶的性能指标。并根据工艺特点和材料成分对光刻胶分类,介绍了热压印光刻胶、紫外压印光刻胶、步进压印式光刻胶和滚动压印式光刻胶的特点以及碳氧类纯有机材料、有机氟材料、有机硅材料做压印光刻胶的优缺点。列举了热压印、紫外压印、步进压印工艺中具有代表性的光刻胶实例,详细分析了其配方中各组分的比例和作用。介绍了可降解光刻胶的原理。展望了压印光刻胶的发展趋势。     

纳米TiO2/醇酸复合涂层的耐腐蚀性能研究

采用盐雾试验和电化学交流阻抗技术,研究了纳米TiO2对钢板涂层耐腐蚀性能的影响,并通过扫描电镜观察了纳米TiO2复合涂层断面形貌.研究表明,纳米TiO2复合涂层的耐腐蚀性能均优于未添加纳米TiO2涂层,当纳米TiO2添加量为1.5%(质量分数)时,涂层耐盐雾时间由420h提高到710h,涂层阻抗值也由107Ω·cm2增加至109Ω·cm2.从涂层断面观察发现,纳米TiO2添加量为1.5%(质量分数)时,颗粒较均匀分散,粘接紧密,形成较为致密的纳米复合涂层.     

纳米重晶石/环氧复合钢板涂层材料机械及耐腐蚀性能的研究

研究了纳米重晶石改性方法,以及纳米重晶石添加量对钢板涂层硬度、T弯、应变和耐盐雾等性能的影响,并通过扫描电镜观察了纳米重晶石/环氧复合涂层断面以及粒子在基体中的分散状况.研究表明,使用5%硬脂酸钠改性后的纳米重晶石活化指数最大,且具有良好的分散性;纳米重晶石添加量为1.0%时,涂层性能有较大的提高,T弯从4T改善到2T;耐盐雾时间也由720h增加到1096h,提高了20%以上.另外,从涂层断面观察发现,纳米重晶石添加量为1.0%时,颗粒较均匀地分散,粘接紧密,形成较为致密的复合涂层.     

新型纳米银导电胶的制备及其性能研究

通过液相化学还原法制备纳米银粉,经扫描电子显微镜(SEM)和X射线衍射(XRD)表征,表明该方法制备的纳米银粉纯净,粒度分布均匀,呈短棒状.该纳米银粉作为导电填料加入可以有效地改善导电胶体系的体积电阻率和连接强度.在总银粉填充量60%,纳米银粉与微米银粉比例为1:5的情况下,导电胶的体积电阻率达到最低值1.997×10-4Ω·cm,同时连接强度达到18.9MPa.     

添加剂对氧化锌电阻片电学性能影响的研究进展

综述了近年来添加剂对氧化锌电阻片电学性能影响方面的研究进展,分析了不同添加剂对氧化锌电阻片电学性能的影响机理。通过比较发现,纳米添加剂可以降低高温烧成时的烧成温度,进而抑制晶粒长大,改善烧成均匀性,氧化锌晶粒平均尺寸可控制在1μm左右,泄漏电流2μA,通流容量可达250J/cm3。指出纳米添加剂进一步在氧化锌电阻片生产中的应用是今后研究的方向。