全文获取类型
收费全文 | 152篇 |
免费 | 5篇 |
国内免费 | 10篇 |
专业分类
电工技术 | 6篇 |
综合类 | 10篇 |
化学工业 | 85篇 |
金属工艺 | 9篇 |
机械仪表 | 4篇 |
建筑科学 | 2篇 |
能源动力 | 2篇 |
轻工业 | 6篇 |
石油天然气 | 13篇 |
武器工业 | 6篇 |
无线电 | 3篇 |
一般工业技术 | 7篇 |
自动化技术 | 14篇 |
出版年
2018年 | 1篇 |
2017年 | 3篇 |
2016年 | 5篇 |
2015年 | 6篇 |
2014年 | 6篇 |
2013年 | 2篇 |
2012年 | 1篇 |
2011年 | 6篇 |
2010年 | 2篇 |
2009年 | 11篇 |
2008年 | 11篇 |
2007年 | 13篇 |
2006年 | 20篇 |
2005年 | 14篇 |
2004年 | 11篇 |
2003年 | 15篇 |
2002年 | 13篇 |
2001年 | 8篇 |
2000年 | 2篇 |
1999年 | 1篇 |
1992年 | 1篇 |
1991年 | 3篇 |
1990年 | 5篇 |
1989年 | 2篇 |
1988年 | 1篇 |
1986年 | 1篇 |
1985年 | 2篇 |
1984年 | 1篇 |
排序方式: 共有167条查询结果,搜索用时 15 毫秒
71.
72.
波长校准是二极管阵列检测器研制过程中一个重要的环节,可直接影响到光谱定性定量的准确度。利用原位光源——氘灯的特征光谱结合氧化钬玻璃的透过光谱对二极管阵列检测器进行波长校准,比较波长标准值的取值方式以及校准方程的拟合方式对校准结果的影响,并使用偏差平均值、偏差标准差、均方根误差对校准结果进行评价。结果表明,多点高次函数拟合的校准结果更准确,其中多点三次函数校准结果的偏差平均值、偏差标准差、均方根误差分别是–2.97×10~(–3) nm、0.47 nm、0.44 nm。对自制光电二极管阵列检测器进行波长校准,波长误差在±1 nm以内。 相似文献
73.
74.
75.
76.
77.
78.
含荧光基团的丙烯酸-丙烯酰胺共聚物的合成 总被引:13,自引:1,他引:12
以4-氯-1,8-萘二甲酸酐和3-二甲氨基丙胺为原料合成了一种水溶性的荧光单体4-甲氧基-N-(2-N,′N′-二甲基氨基丙基)萘二甲酰亚胺烯丙基氯化铵(4-MNDMAPN-AQ),并得到了最佳的合成条件。通过红外光谱、核磁共振谱、质谱等方法对产物结构进行了表征。将该荧光单体与丙烯酸(AA)、丙烯酰胺(AM)共聚,得到了共聚物AA/AM/4-MNDMAPN-AQ。对该共聚物的荧光性质和阻垢性能进行了系统研究,结果表明,该共聚物的荧光强度与其质量浓度呈良好的线性关系,线性相关系数为0.995 0,检测下限为0.48m g/L。采用硬垢法,在(75±0.2)℃、[Ca2+]=5mm ol/L、[HCO3-]=10mm ol/L、恒温10h、共聚物AA/AM/4-MNDMAPN-AQ的质量浓度为2.5m g/L的条件下,该共聚物的阻垢率可达70.78%,与阻垢性能良好的2-膦酸基丁烷-1,2,4-三羧酸相当,达到了阻垢剂的阻垢分散性能要求,表明该共聚物具有良好的阻垢性能。 相似文献
79.
80.
由于分子结构和官能团的不同,各种阻垢剂对碳酸盐、硫酸盐和磷酸盐垢的抑制作用具有较大差异。由于阻垢过程受聚合物组成、相对分子质量分布、官能团结构等因素的影响,涉及到扩散、吸脱附、晶体生长以及配位等复杂的物理化学过程,因此到目前为止,国内关于聚合物阻垢剂阻垢机理的研究基本限于采用XRD、SEM等仪器手段来观察垢的形态、晶形的变化,从分子结构的角度解释阻垢剂作用机理和构效关系的研究还处于起步阶段。 相似文献