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201.
为深入探讨磨削材料去除机理,以氮化硅陶瓷的单颗金刚石磨粒磨削为研究对象,进行旋转变切深的连续划痕正交磨削实验,分析砂轮线速度、工件速度、磨削深度等磨削参数对切向磨削力、法向磨削力以及工件划痕形貌的影响规律。结合压痕断裂力学模型分析可知,氮化硅陶瓷在单颗金刚石磨粒磨削时,材料主要以显微塑性变形为主,存在少量脆性破碎。 相似文献
202.
移动代理的协调是一种在多重代理系统中新兴的技术,同时,即时消息软件现在非常流行.探讨移动代理应用于网络教育环境中的协调模式,提出以即时消息软件为基础的移动代理协调系统,该系统具有容易实现,时空非结合协调等特点. 相似文献
203.
204.
205.
本文介绍了国内外至今在寻找最优磨削基本参数的研究成果,对其中一些代表性磨削基本参数的特点和局限性进行了评述,在此基础上提供了用两个磨削基本参数来预测和控制磨削过程的新概念。 相似文献
206.
对参数权重的计算方法进行了讨论,提出了一种基于多目标决策的参数权重计算方法,利用主客观信息,建立最优化模型,对参数的权重进行合理的分配.最后用实例验证了该方法的有效性. 相似文献
207.
纳米结构陶瓷涂层精密磨削表面/亚表面的形貌 总被引:2,自引:0,他引:2
用扫描电镜对纳米(以n表示)结构WC/12Co(n-WC/12Co)和Al2O3/13TiO2(n-Al2O3/13TiO2)涂层经立式精密平面磨削后的磨削表面/亚表面的形貌进行观察,测量了n-WC/12Co和n-Al2O3/13TiO2涂层精密磨削的磨削力分力比、比磨削能。结果表明:在大多数磨削条件下,n-WC/12Co磨削的材料去除机理主要是非弹性变形方式,即以塑性变形为主,伴随一定的材料粉末化。材料较少以脆性碎裂去除。n-Al2O3/13TiO2陶瓷涂层磨削的材料去除机理主要是脆性去除,同时也存在一定的材料粉末化以及极少的显微塑性变形。 相似文献
208.
化学机械抛光(CMP)作为一种超精密加工技术,在集成电路制造、计算机硬盘、微机电系统、光学元件加工等领域得到了广泛的应用。抛光垫设计制备、抛光垫磨损、抛光垫修整均会对化学机械抛光产生影响。首先从抛光垫基体、抛光垫表面纹理、抛光垫结构等3个方面对抛光垫设计制备相关研究进行了综述,重点介绍了不同基体材质抛光垫的抛光性能,指出了各材质抛光垫的优缺点。其次,介绍了抛光和修整过程中的抛光垫磨损,对比了各研究者建立的抛光垫磨损模型,概述了抛光垫磨损监测技术的研究现状,并指出目前抛光垫磨损状态的监测手段较为单一,采用融合多传感器信号对抛光垫磨损状态进行监测,可以提高其监测精度。为了进一步探究抛光垫修整对抛光性能的影响,归纳了修整器的结构参数,以及修整参数对修整效果的影响,介绍了几种新型修整器结构,并综述了抛光垫自修整技术的研究进展。最后,总结了目前关于研究抛光垫设计制备、抛光垫磨损、抛光垫修整等方面存在的问题,并对其发展前景进行了展望。 相似文献
209.
工程陶瓷作为典型的硬脆性材料,其加工主要通过超硬精细磨料的精密磨削及研磨实现。在线监测磨削过程从而及时调整工艺参数是保证工件表面质量、提高磨削加工效率的重要途径,声发射凭借灵敏度高、实时响应的特性在磨削过程监测中得到了广泛的应用。本文阐述了声发射技术的基本原理,总结了磨削过程中声发射监测常用的信号分析方法,综述了声发射技术应用于工程陶瓷磨削过程中砂轮磨损与修整监测、磨削烧伤监测、工件表面质量预测及智能磨削智能监控系统构建等领域的国内外研究进展,并结合当前现状与不足对未来声发射技术在磨削加工监测中的应用前景进行了展望,以期推动声发射技术在工程陶瓷磨削监测领域的应用扩展。 相似文献
210.