全氟聚醚硅氧烷与SiO_2复合制备耐久性超疏水涂层

采用硅烷偶联剂KH550改性全氟聚醚制备了全氟聚醚硅氧烷,用溶胶凝胶法制备了粒径为200 nm的SiO_2溶胶,然后用KH550对SiO_2溶胶进行表面修饰,采用浸渍法在玻璃表面制备SiO_2涂层,用全氟聚醚硅氧烷进行表面修饰,制备了超疏水涂层,探究了SiO_2用量、硅烷偶联剂用量、修饰物质,以及放置时间对超疏水涂层的影响。结果表明:当SiO_2的质量分数为60%,硅烷偶联剂的质量分数为0.1%时,用全氟聚醚硅氧烷修饰后,水滴在玻璃表面的平均接触角为151.1°,且放置30天后仍具有超疏水效果。     

2—乙基蒽醌的合成

以邻苯二甲酸酐和乙苯为起始原料,采用Ｆｒｉｅｄｅｌ－Ｃｒａｆｆｓ反应,合成了目的产物２－乙基蒽醌,产物纯化后,适合于作双氧水生产工作载体。     

攀成钢80t转炉生产石油套管钢工艺及质量研究

攀钢集团成都钢铁有限责任公司80t转炉生产线通过石油套管钢冶炼和脱氧合金化工艺的技术研究,使石油套管钢性能质量达到了API的相应规范。     

TXP系统虚拟AP功能软件设计开发

介绍了针对TXP（Teleperm XP）分散控制系统虚拟自动化处理器AP（Automation Processor）功能软件的设计与开发．实现了数据采集、数据输出及真实AP功能块所具有的必要控制功能。根据虚拟AP软件的设计思想．运用面向对象程序设计（OOP）技术．在Windows2000平台上,采用Visual C＋＋6．0进行软件开发。该软件以对象类库函数的方式将所有数据和算法封装在一起．供仿真主控程序调用。它充分利用虚拟分散控制系统（DCS）技术的高度逼真性和开放性．实现了控制功能：而开发成类库文件的形式．达到了修改简单、维护工作量小和复用性好的效果。     

延迟焦化工艺中弹丸焦生成与抑制的研究进展

综述了延迟焦化工艺中弹丸焦生成与抑制的研究进展。介绍了弹丸焦的形态结构,分析了其成焦机理及原因,在此基础上提出了相应的抑制措施,并对弹丸焦的研究工作提出了相关建议。     

KHDL-1型电路原理试验箱的改进与误差分析

本文基于KHDL-1型电路原理试验箱的设计改进。KHDL-1型电路原理试验箱在做戴维南实验的时候不能测量每个电阻的阻值,这无形当中就存在了误差。而对于新型电路实验箱,学生在做戴维南实验的时候可以自己选择电阻,每个电阻值都可以记录在案。同时学生也可以明了地看见内部接线,可以用万用表测得分离元件的参数,进一步进行数据处理和误差分析。改进后的新型电路原理试验箱体积小、耗材少、制造成本低,同时采用分离式、即插即用电器元件,各实验电路板上的原件均为独立的。[1]     

基于ARM嵌入式模糊-PID温度控制系统的设计

设计了一种基于ARM7处理器的温度控制系统。以模糊-PID控制理论为基础,阐述了μC/OS-Ⅱ嵌入式实时操作系统在ARM7内核微处理器上的移植与应用,开发出具有良好人机界面的温度控制器。首先介绍了系统的硬件构成,然后研究了模糊-PID控制算法的实现,最后给出系统的软件设计思路。     

慢衰落信道下的自适应MIMO检测算法

针对现有V-BLAST检测算法复杂度高的问题,本文提出了一种适用于慢衰落信道环境下的自适应MIMO检测算法。该算法首先利用基于最小均方误差准则的排序干扰抵消算法获得信号检测顺序和初始滤波器系数;利用信道之间的相关性,应用最小均方误差（LMS）算法到判决反馈均衡（DFE）结构中,完成滤波器系数的更新,从而避免了大量的矩阵求逆操作。仿真结果表明,与传统的MMSE-OSIC算法相比,本文算法在检测性能上略有下降,但具有更低的计算复杂度和更高的处理效率。      

融合直方图阈值和K-均值的彩色图像分割方法

提出了一种简单有效的彩色图像分割方法。应用直方图阈值技术获得彩色图像中所有可能的均匀区域,即通过寻找主峰值,对区域作初始化和合并,获得由相应的聚类中心标注的均匀区域,提出自适应K均值算法以提高已经形成的均匀区域间的紧密度。实验结果表明,该方法与IAFHA方法比较,分割的区域数较少,且分割速度较快,具有一定鲁棒性。     

贵州某红铁矿微波磁化焙烧试验

采用微波加热还原技术,对贵州某红铁矿进行了磁化焙烧试验,研究了焙烧温度、配碳量和焙烧保温时间对焙烧矿磁化率的影响。试验结果表明：在温度为700 ℃,配碳量为10%,焙烧时间为80 min的条件下,焙烧矿磁化率为2.324 7,接近理论值2.333 2。