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The effects of hydrogen dilution on the bonding characteristics, composition, and properties of SiN films deposited from a SiH4/NH3 mixture by r.f. plasma enhanced chemical vapor deposition were studied. The addition of relatively small amounts of hydrogen increased the Si/N ratio resulting in a corresponding increase in the Si---H/N---H bonding ratio. At higher hydrogen dilutions, the Si/N ratio decreased towards stoichiometric with significant changes in the hydrogen bonding characteristics. Changes in the physical properties are discussed in terms of the measured changes in bonding structure. Changes normally associated with changes in bulk film density were found to be well correlated to the Si---N bond density. The effects of substrate temperature and NH3/SiH4 ratio on films deposited under conditions of high hydrogen dilution were similar to those widely reported in the literature for plasma-enhanced chemical vapor deposition films deposited without hydrogen. Films deposited by remote plasma using hydrogen as the excitation exhibited high Si---N bond densities and low hydrogen. Experiments are planned to clarify the mechanism responsible for the observed changes in film properties. 相似文献
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超细炸药粉体团聚-分散机理研究 总被引:5,自引:0,他引:5
通过试验并运用粒子间力的理论对HNS超细微粒团聚—分散机理进行了研究。结果表明:超声分散,表面活性剂包裹以及喷雾干燥可以满足HNS超细微粒分散的要求。 相似文献
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U(Ⅳ)-U(Ⅵ)同位素交换反应动力学研究 Ⅰ.Fe~(2+)对U(Ⅳ)-U(Ⅵ)同位素交换反应的催化作用 总被引:1,自引:0,他引:1
一、前言由于U(IV)-U(VI)同位素交换体系具有相当大的同位素效应和很好的稳定性,并且容易实现两相回流,这对于分离U同位素的工业应用都是十分有利的。但是,U(IV)-U(VI)同位素交换反应速度非常慢,常温下H~+浓度为1.0—4.0 mol/l时,速度常数为1.0×10~(-4)l~2/mol·s。因此要用U(IV)-U(VI)交换体系浓缩铀同位素,必须研究U(IV)-U(VI)交换反应动力学,找到加快交换反应的方法。 相似文献
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黄河小浪底郑州集中控制系统的实现 总被引:2,自引:0,他引:2
黄河小浪底郑州集中控制系统将多个相互联系的不同专业领域子系统有机地连接成一个整体。文中介绍了该系统的硬件配置和主要功能,并简单介绍了该系统所采用的网络安全措施。 相似文献
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济钢350m^3高炉高富氧生产技术 总被引:1,自引:1,他引:0
分析了济钢350m^3高炉高富氧对产量,理论燃烧温度,炉况顺行状况,焦比和生产效益的影响,高富氧可提高产量,但升高焦比和高炉理论燃烧温度,一定程度上影响高炉顺行,存在富氧效益最大化的适宜富氧率.高炉生产应低富氧高喷煤,根据钢目前的情况,富氧率经2%-3%为宜. 相似文献
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