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991.
Deep cryogenic treatment technology of electrodes is put forward to improve electrode life of resistance spot welding of aluminum alloy LF2.Deep cryogenic treatment makes electrode life for spot welding aluminum alloy improve.The specific resistivity of the deep cryogenic treatment electrodes is tested and experimental results show that specific resistivity is decreased sharply.The temperature field and the influence of deep cryogenic treatment on the electrode tip temperature during spot welding aluminium alloy is studied by numerical simulation method with the software ANSYS.The axisymmetric finite element model of mechanical,thermal and electrical coupled analysis of spot welding process is developed.The numerical simulation results show that the influence of deep cryogenic treatment on electrode tip temperature is very large. 相似文献
992.
纳米金丝电导量子效应 总被引:1,自引:0,他引:1
综述了纳米金丝电导量子效应的基本概念,介绍了金丝电导研究背景及现状,并从理论上分析了电导量子效应的机理。介绍了用STM和MCBJ等工具对纳米金丝的原子基链进行的研究。纳米金丝原子基链的电导是量子化的,量子电导受到包括电场、磁场、温度等各种因素的影响。在综述的基础之上,提出了该领域未解决的科学问题并指出了该领域未来的发展方向。 相似文献
993.
994.
995.
首次选用镍作为中间催化剂,采用吸附还原成长法制备纳米Ir/SPE电极,并就镀浴温度和pH值、H2IrCl6浓度、NaBH4与H2IrCl6配比对电极制备的影响作了深入研究。研究表明:采用吸附还原成长法,以Ni作为中间催化剂,浓度为22mmol·L-1NaBH4与浓度为6mmol·L-1H2IrCl6的混合液作为镀浴,亦即NaBH4与H2IrCl6配比为3.6,pH值为8,镀浴温度为40℃,镀浴时间为24h的条件下,循环镀覆3次,可获得致密、均匀,具有良好电解性能的纳米级Ir/SPE电极。 相似文献
996.
997.
在室温下,应用对靶直流磁控溅射设备在普通玻璃基片上制备了FePt(30nm)/Ti(tnm)颗粒膜样品,随后,在真空中进行了原位退火.详细研究了Ti衬底层对FePt颗粒膜的微结构和磁特性的影响.X射线衍射图谱表明样品形成了较有序的L10织构,Ti和FePt形成了三元FePtTi合金.当Ti层厚度t=5 nm、退火温度Ta=500℃时,样品具有高度有序的L10织构、小的颗粒尺寸和优异的磁特性.矫顽力超过了6.7 kOe,饱和磁化强度为620emu/cc.并且具有较小的开关场分布.结果表明FePt/Ti颗粒膜系统可作为超高密度磁记录介质的候选者. 相似文献
998.
基于AutoCADR14和VB5开发的数控自动编程系统 总被引:3,自引:0,他引:3
利用AutoCAD R14的ActiveX Automation编程接口,提出了一种基于R14和VB5的数控自动编程系统。该系统可以R14环境中直接进行加工零件的工艺设计和数控编程,并且具备了刀具半径补偿的动态模拟和加工程序的检验功能,生成的加工程序可以通过磁盘或RS232通讯接口输送给数摧机床。 相似文献
999.
1000.
Effect of rhenium addition on isothermal oxidation behavior of single-crystal Ni-based superalloy 总被引:1,自引:0,他引:1
The isothermal oxidation behavior of a nickel-based superalloy, which we designate as DD32, containing 4 wt.% rhenium and another alloy (DD32M) without rhenium were investigated at 900, 1000 and 1100 °C. Oxidized alloys were characterized by SEM, EDX, EPMA and XRD. The two alloys revealed similar oxidation rates at 900 °C, while the DD32 alloy showed a slightly higher mass gain than that of the DD32M alloy during 1000 and 1100 °C exposure. Surface and cross-sectional examination indicated that DD32 alloy showed nonuniform oxidation between dendritic and interdendritic areas at all temperatures. Similar different oxidation behavior between dendritic and interdendritic regions was also observed in the DD32M alloy at 900 °C. However, DD32M showed relatively uniform oxidation at 1000 and 1100 °C exposure. Therefore, Re addition clearly induced the nonuniform oxidation of the alloy. 相似文献