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聚硅烷(紫外光敏材料)的氧等离子体处理特性 总被引:5,自引:0,他引:5
红外吸收谱分析表明,聚硅烷(PolymethylPhenethylSilane,PMPES)在氧等离子体处理后转变成PSiOx膜,PSiOx中的x在1.5~2之间,其高频C-V特性曲线的平带电压为正,大小与氧等离子处理条件和PMPES厚度有关. 相似文献
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