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51.
高放废物地质处置库花岗岩体预选研究   总被引:1,自引:1,他引:0  
简要介绍了应用遥感技术结合地质研究,优选高放废物地质处置库花岗岩体的思路和方法.以北山外围地区为例,通过遥感数据处理,遥感影像解译,岩体地质特征分析,岩体预选准则的建立,在野外勘查的基础上,预选了若干有利的花岗岩体.为优选高放废物地质处置库场址提供决策依据.  相似文献   
52.
通过电沉积修饰铂微粒制备Ti基纳米TiO2-Pt(Ti/nano-TiO2-Pt)修饰电极,采用循环伏安法研究了乙二醛在Ti/nano-TiO2-Pt上的电催化氧化。结果表明:Ti/nano-TiO2-Pt修饰电极对乙二醛的氧化呈现较高的电催化活性,可作为乙二醛电氧化合成乙醛酸的高活性催化电极。  相似文献   
53.
基于视觉的激光深熔焊熔池检测及图像处理   总被引:1,自引:0,他引:1       下载免费PDF全文
针对不锈钢材料Nd:YAG固体激光深熔焊接,在充分分析熔池辐射光谱特征的基础上,并考虑同轴检测的技术特点,设计了熔池辐射光和YAG激光的传输与分离机构,优选了合适的半透半反镜片、窄带滤光片、中性减光片和变焦镜头等光路系统组件,成功构建了面向Nd:YAG激光深熔焊接的同轴视觉检测系统,获得了清晰的熔池区图像.针对拍摄到的...  相似文献   
54.
在分析A3200内核的基础上,基于"PC+NC"型开放式数控系统结构,以VC++和.NET框架作为软件开发工具,设计了通用NC数控系统软件。该软件面向工业应用,人机交互良好,加工操作简便,易于二次开发,较好地满足了加工机床对数控系统软件的需求。  相似文献   
55.
56.
57.
刘乾  何建国  岳晓斌 《红外与激光工程》2019,48(3):317002-0317002(8)
针对正弦移相干涉(SinPSI)中位相调制无法精确控制的问题,提出了一种从时域频谱提取波面信息的任意正弦调制SinPSI方法(ASM-SinPSI)。首先,根据SinPSI信号频谱的第一、三个谱峰强度关系确定调制幅度,并采用空间随机点的方法避免了分母零值的问题,然后从SinPSI信号的前三个谱峰中获得波面位相的正切数值与符号信息,最后以反正切计算波面位相。数值仿真表明:在未知调制信息情况下,ASM-SinPSI的波面位相提取误差为0.016 rad。在调制幅度为1.6、2、2.5、3 rad时的测量实验中,ASM-SinPSI均可精确提取波面位相,与真实波面偏差的最大值为0.058 7 rad。在1.5~3.5 rad区间内的任意调制幅度下,ASM-SinPSI无需精确预知调制信息即可高精度提取波面位相,放宽了对移相器的严苛要求。  相似文献   
58.
基于可见近红外高光谱建立番茄叶片水分含量快 速诊断模型,对不同光谱处理及建模进行优选, 对水分含量分布进行可视化研究。结合阈值法采集不同生长期192个 番茄叶片感兴趣区域光谱信息进行预 处理比较,分析β权重系数法、连续投影算法(SPA)、无信息 变量消除(UVE)、竞争自适应加权算法(CARS) 及UVE-SPA、CARS-SPA组合方法特征波长优化方法,利用提取特征波长对多元线性回归(MLR)、主成分回 归(PCR)及偏最小二乘回归(PLSR)水分含量建模方法进行有效性评价,优化出最佳组 合模型,采用特征 图像光谱反射权重系数实现叶片含水量及其分布的可视化,解析叶片含水量光谱响应特性。 最终确立 Baseline为最佳波段预处理方法,全波段建模预测集相关系数Rp 达0.97;提取特征波长后,Baseline-CARS-MLR 为叶片水分含量预测最佳模型,预测集相关系数Rp为 0. 95,预测集均方根误差RMSEP为0.042。基于高光 谱成像技术快速评估叶片水 分含量具有一定优势,为活体番茄植株生长水分亏缺状况实时评估及智能化灌 溉技术提供理论依据。  相似文献   
59.
针对目前市场上水果的定量称重包装精度不高的现状,以宁夏长枣为研究对象,设计了红枣分级生产线自动控制称重系统,介绍了称重系统的工作原理及系统组成,并设计了自动称重系统的电气控制部分.该称重系统结构简单,操作灵活;整个过程实现自动控制,无需人工处理.实验表明,设计的称重系统能实现对果品的快速、定量称重包装,可以满足企业生产的需要,有较好的推广价值.  相似文献   
60.
针对Ta-W合金材料圆薄片零件化学机械抛光工艺,设计了Ta-W合金材料化学机械抛光抛光液,并探讨了抛光液各组分的含量及抛光工艺参数对抛光速率和抛光件表面质量的影响。结果表明,当抛光液中磨料SiO2溶胶质量分数为40%-65%时,抛光速率也达到较高值并在一定的硅溶胶含量范围内波动不大;当抛光液中有机碱的质量分数为4%-6%时,抛光速率达到最大值;随着氧化剂含量的增加,去除速率几乎成线性增加,但随氧化剂含量的增大表面状态变差,故应控制氧化剂的含量;随着抛光液流量的增加,抛光速率也增大,但在流量增加到200mL/min后,速率的增加变得缓慢。  相似文献   
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