沉积温度对Ge2Sb2Te5溅射薄膜结构、电/光性质的影响

在衬底加热条件下利用磁控溅射法制备Ge2Sb2Te5薄膜,利用X射线衍射仪表征各种沉积温度下薄膜的结构,差示扫描量热法(DSC)确定的薄膜晶化温度为168℃(加热升温速率为5℃/min)。用四探针法测试薄膜的方块电阻,分光光度计测试薄膜的反射率谱,并根据反射率数据讨论在波长为405和650nm时薄膜的反射率对比度同沉积温度关系。结果表明:室温沉积的薄膜为非晶态;在衬底温度为140℃条件下薄膜已完全转变为晶态Ge2Sb2Te5,在300℃时出现少量的六方相;低于140℃时易形成非Ge2Sb2Te5组分的其它晶相,它们对薄膜的电/光性质有很大的影响,可能是导致此类相变光存储薄膜使用过程中反射率对比度下降的原因。     

从盐湖卤水萃取锂的影响因素分析

文章介绍了萃取法从盐湖卤水分离镁锂的工艺过程和机理,主要对影响萃取率的几个关键因素进行了分析,总结了TBP-FeCl3-200#溶剂汽油萃取体系适宜的配比,确定了最优萃取条件。     

先进摄影系统将摄影术带入21世纪

1996年4月22日，世界九个国家的业余摄影爱好者首次全面参观了一种先进摄影系统（APS）。与以往的相机一胶片系统不同，新系统具有以下八种基本特性：·优良的图片质量；·落入式装卷，中绕轴中断；·三种格式可供选择；·冲印后胶卷易于有序排放；·每张照片背面均可冲印；·胶卷尺寸小；·用途更广。下面将对这些特点进行详细介绍。这种新型摄影系统亦被认为是在传统摄影术与数字成像之间架起的桥梁。从历史上看，新型摄影术的诞生会刺激相机和胶卷的销售（因而也促进冲印业的发展）。伊斯特曼·科达公司为摄影技术的发展在以下方面起了…     

新信息时代的曙光

日本光电子工业技术发展协会跟踪着国内光子工业的发展趋势。在15年的历史中，于1982，1990和1995年三次提出它对未来发展的观点。这次，协会基于自己的研究得出结论：新信息时代的太阳即将升起。协会对未来的预见部分包含在它将于1995年3月结束的1994财政年度的活动报告和对1995财政年度的预言中。已经获得关于未来技术发展趋势的重要信息，在协会最新报告的英文版本中没有包含这些信息。协会把光子工业分成两个部分：设备和部件。预计到95财年设备产量可达3．090亿日元，部件产量达1．247亿日元——分别增加7．6％和5．0％。考虑到日本199…     

以激光分离钚同位素

华盛顿的一个环保组织正试图阻止能源部进行一项旨在应用激光同位素技术从废核燃料中分离钚以用于制造原子武器的扩大研究计划。自七十年代中期以来，能源部的劳伦斯·利弗莫尔国立实验室和洛斯·阿拉莫斯国立实验室一直以较少的投资秘密进行一项用铜蒸汽激光器富集铀的激光同位素分离研究计划。1980年和1981年，用于这一计划的总资金都是500万美元。