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设计了一种新的InP/In0.75Ga0.25As/InP器件结构,其特点在于采用InP衬底,高X值的InxgA1-xAs沟道,选用InP作为势垒层,从而避免了用含Al势垒层有可能引起的DX中心对器件性能的不利影响。在器件工艺实验方面,提出将KrF准分子激光无铬移相光刻应用于栅图形加工,设计,组装了一套实验系统,可重复可靠地得到剖面陡直的0.3-0.35μm胶阴线条,这一工艺技术完全与现有器件工艺 相似文献
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微波集成电路和微波器件的设计需要准确地提取HFET的小信号等效电路模型参数.采用带回火的模拟退火算法从S参数提取HFET小信号等效电路模型参数,得到了高质量的解.计算结果是全局最优解,摆脱了初始值的影响,并且克服了局部优化算法遇到的不收敛或收敛到错误解的问题.利用测量得到的栅电阻,计算结果的精度可以进一步提高.这个算法同样也适用于HBT、电容和电感等器件模型参数的提取. 相似文献
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