InP 层对正面及背面入光 PIN 探测器响应度影响研究

InP盖层对光的吸收及入射光在探测器多界面间的多次反射,使InP层对InGaAs/InPPIN探测器的响应度产生了很大的影响。本文测量了正面和背面入光PIN探测器的响应度,并与测量的InP晶片透射率及模拟的透射率进行比较,分析了InP层对正面及背面入光PIN探测器响应度的影响。结果表明,随着InP层厚度的增加,响应度峰与峰的间隔Δλ不断减小,波形越来越密集。所以正面入光探测器的响应度起伏比较明显,且随着InP层厚度的增加,响应度极值对应的波长发生红移。背面入光探测器的响应度非常密集而成为准连续的带状。     

遥测发射机调制失真度测量研究

介绍了一种采用频谱分析仪基于贝塞尔函数的调制失真度测量方法。设计了一套遥测发射机调制失真度的测量系统。基于LabVIEW虚拟仪器软件设计上位机控制平台,进行测量控制和数据处理;下位机硬件实现参数测量。此方法简单实用,大大提高了测量效率。     

AIGaN／GaN HEMT高温特性的研究进展

回顾了在高温条件下AIGaN／GaN HEMT器件特性的研究进展。发现2DEG的高温特性是影响器件高温性能的根本内在因素，且外延材料的缺陷、衬底及其器件的封装形式也影响器件的高温特性。最后总结了适合高温下工作的AIGaN／GaN HEMT的改进方法。     

Arrhenius 程应用新方法研究

提出了一种快速评价电子元器件的新方法,该方法具有快速、准确、成本低、效率高等优点.利用Arrhenius方程,能快速准确地确定元器件退化的失效敏感参数和退化机理;可对单样品求出与失效机理相关的失效激活能和寿命;通过多样品试验,可得到寿命分布、寿命加速特性和失效率等可靠性参数.以DC/DC电源变换器和高频小功率管3DG130为例,通过实验与现场数据的对比,证明了新方法的正确性和有效性.该方法适用于失效率优于10-7/h(λ＜10-7/h)的高可靠性产品的定量评价.     

双极型晶体管电流增益温度特性的研究

修正了电流增益表达式。对样品3DK105B在不同温度点下进行测试分析。考虑样品理想因子n随温度的变化、VBE随温度的变化,以及禁带宽度随温度变化对电流增益的影响,对电流增益表达式进行了修正,使修正后的结果更加接近实际测试结果。     

跨导为220mS／mm的AIGaN／GaN HEMT

介绍了AIGaN／GaN HEMT器件的研制及室温下器件特性的测试。漏源欧姆接触采用Ti／Al／Pt／Au．肖特基结金属为Pt／Au。器件栅长为1μm，获得最大跨导220mS／mm，最大的漏源饱和电流密度0．72A／ram。由S参数测量推出器件的截止频率和最高振荡频率分别为12GHz和24GHz。     

基于加速退化晶体管贮存寿命的评估

为探求快速评价国产晶体管长期贮存寿命的方法,对国产3DK105B型晶体管开展了加速退化试验的分析和研究。通过三组不同温、湿度恒定应力的加速退化试验,确定了晶体管的失效敏感参数,利用其性能退化数据外推出样品的寿命;给出了常见的三种分布下的平均寿命,并结合Peck温湿度模型外推出自然贮存条件下本批晶体管的贮存寿命。最后分析了试验样品性能参数退化的原因。试验结果可以为评估国产晶体管的贮存可靠性水平提供一定的参考。     

半导体功率发光二极管温升和热阻的测量及研究

通过电学测量方法得到了半导体功率发光二极管温升与热阻的加热响应曲线.曲线出现一个或多个台阶,反映了其内部的热阻构成与器件物理结构.同时采用遮光法对器件温升及热阻进行了修正.还应用瞬态加热响应原理对功率管的封装结构进行了监测.     

晶体管电流增益的表达式修正及电流增益在可靠性评估中的应用

Considering the impacts of ideal factor n, VBE and band gap changes with the temperature on current gain, the current gain expression has been corrected to make the results closer to the actual test. Besides, the accelerating lifetime study method in the constant temperature-humidity stress is used to estimate the reliability of the same batch transistors. Applying the revised findings from the expression, the current gains before and after the test are compared and analyzed, and, according to the degradation data of the current gain, the transistor lifetimes in the test stress are respectively extrapolated in the different failure criteria.     

基于大电流密度下欧姆接触退化的新方法

在大电流密度下对欧姆接触结果进行考核,对传统的传输线法测量接触电阻率的结构与方法进行了改进,充分考虑到了半导体材料受到的影响,可达到只对接触区域老化而不破坏其他区域.工艺制备中实现台面刻蚀斜坡效果,并采取多次SiO_2淀积多次光刻技术,有效降低了引线电极断裂的概率.通过大电流密度老化结果显示:接触电阻率早期快速失效,且随电流密度及老化时间的增加而退化加剧.对样品老化前后进行能谱分析得知:接触层中的Al是一种较低的抗电迁移能力的金属,由于电迁移被冲击出来从而破坏了良好接触层.改进后的结构对测量大电流密度下的欧姆接触是一种好方法.