基于SOI材料的偏振不敏感的阵列波导光栅

阵列波导光栅(AWG Arrayed Waveguide Grating)是实现多通道密集波分复用(DWDM Dense Wavelength Division Multiplexing)光网络的理想器件,偏振敏感性是它的一个重要性能指标。本文针对SOI材料的阵列波导光栅,分析了如何采用特殊的波导结构来减小它的偏振相关性,并对16通道、间隔为0．8nm的AWG解复用器进行了计算,结果表明其偏振敏感性低于0．06nm。     

利用数字数据网（DDN）建设湖北省农行综合业务网

本文讨论了ＤＤＮ网的特点，功能和用户接入方式，并具体介绍利用ＤＤＮ网建立专用的湖北省农行综合业务网络的实例以及相关技术。     

MEMS加速度计信号光电检测与电容检测的噪声分析

在高精度MEMS扭摆式加速度计电容检测和光电检测实现原理的基础上,分析了该加速度计热机械噪声和电学噪声特性.该加速度计结构在品质因数Q=1和Q=85时,热机械噪声分别为2.4μgn/根号Hz和0.28 μgn/根号Hz.对于电学噪声,电容检测的电学噪声为3.27 μgn/根号Hz,光电检测在只考虑电学噪声时能分辨的最小加速度可达0.05 μgn.对比得出对于扭摆式加速度计结构,光电检测具有比电容检测更小的系统总噪声.     

高速MEMS扫描微镜动态变形特性研究

扭转镜面的动态形变是影响显示成像用MEMS扫描微镜光学分辨率的主导因素,研究了高速转动的MEMS扫描微镜的动态形变特性,得到了相关有用的结论。结果表明当MEMS扫描微镜镜面几何尺寸一定时,如果要获得系统衍射极限光学分辨率,需要对转动频率,扭转角度和镜面厚度进行优化设计和选择,简单通过增加镜面厚度保证光学分辨率的方法不利于MEMS扫描微镜综合性能的改善和提高。     

基于MEMS微镜的可调光学衰减器

设计并制作了一种基于微光机电系统(MEMS)微镜的可调光衰减器(VOA)。其中微镜的谐振频率为11.26kHz,采用垂直梳齿驱动器驱动。微镜采用体硅微加工工艺在绝缘体上硅(SOI)片上制作。采用制作的微镜和双光纤准直器装配成VOA,衰减器在扭转角度为0.3°时驱动电压只有4.4V,开启和关断时的响应时间分别为1.67ms和2.74ms,插入损耗为0.6dB,最大衰减值为40dB。     

基于多掩膜光刻工艺的MEMS体硅加工

本文提出了一种新颖的MEMS多掩膜工艺,实现了带有大台阶和大深宽比窄槽的衬底上的体硅精细加工。通过薄胶多次光刻在衬底上制作出氧化硅(SiO2)、氮化硅(Si3N4)、光刻胶(photo-resist,PR)等材料的多层掩膜图形,每层掩膜可以进行一次衬底刻蚀或腐蚀,刻蚀或腐蚀完毕后去除该层掩膜。该工艺解决了MEMS工艺中的深坑涂胶和光刻问题,结合深反应离子刻蚀(Deep Re-active Ion Etching,DR IE)、湿法腐蚀等工艺可以用于多级台阶、深坑底部精细结构、微结构释放等MEMS工艺。