多层结构磁光记录介质的优化设计

本文提出了一种利用导纳特征矩阵计算多层结构磁光记录介质光学特性的方法。利用这种方法可方便地得到包含有一层或多层磁光薄膜的多层结构的反射率R,克尔角θ_k及椭圆度ε_k。此外,本文还构造了一个设计多层结构磁光记录介质的评价函数,并运用统计试验法对几种常见的多层结构进行了优化设计。     

斜入射薄膜

本文讨论光束倾斜入射时薄膜的基本特性和薄膜设计的有关问题。提出对通常的理论处理稍作改变,以便藉助于导纳轨迹的图解技术直观地分析斜入射薄膜的特性。     

光学薄膜自动设计(Ⅰ)—评价函数的构成

解析设计和自动设计的结合是光学薄膜合成的一个方向。这二者的结合体现在自动设计的评价函数的构造和参与评价的薄膜性质的确定上面。本文给出了基于这种设计思想构造评价函数的一些实例。     

极薄薄膜光学特性与微结构的研究(Ⅰ)——光学常数和微结构的联系

本文利用衰减全反射(ATR)技术研究了极薄金属膜(Ag和Al)以及极薄介质膜(ZnS和SiO_2)的光学常数随膜厚的变化规律,并从等效洛伦兹振子原理和Maxwell-Garnett理论出发,得到了极薄金属膜的微结构参数,从而揭示了成膜过程中微结构变化与光学常数变化的关系。本文还分析了束缚态电子对金属膜光学常数的影响。     

电子束反应蒸发氧化物薄膜的应力特性

研究了反应电子束蒸发氧化物光学薄膜在空气中的应力。为了找到能减小多层膜结构内应力的淀积工艺参数,测试了氧化物膜层TiO2,Ta2O5,SiO2,Al2O3,HfO2的应力,发现有些膜层为压应力,一些高折射率膜为张应力。实验表明,热处理可以有效地降低氧化物膜层光学吸收,并改变应力。     

用稀土金属Eu的有机配合物Eu(DBM)_2(AA)phen作发光层的有机电致发光薄膜的研究

研究了稀土Eu的有机配合物Eu(DBM ) 2 (AA) phen的光致发光特性。用Eu(DBM) 2 (AA) phen作发光层 ,分别用N ,N 双 (3 甲苯 ) N ,N 二苯联苯胺 (TPD)和聚乙烯基咔唑 (PVK)作空穴传输层研制了有机电致发光薄膜器件 ,研究了它们的电致发光特性     

吸收薄膜系统的理论和设计

由 Berning 和 Turner 提出的势透射率概念在带通滤光片和选择性吸收薄膜的设计中得到了成功的应用。本文介绍了利用势透射率概念设计消偏振分光镜所取得的进展,包含一层金属膜的分光镜设计得到了优良的性能。     

稀土有机配合物电致发光器件的研究进展

概述了稀土有机配合物电致发光薄膜器件的材料、结构、发光机理以及目前研究的状况、出现的问题和研究的发展趋势.     

光学薄膜进展

本文就消偏振截止滤光片在多通道光纤通讯中的应用、远紫外及软x-射线反射镜的突破、离子束辅助的蒸发技术的兴起以及薄膜微结构的研究等方面综述了光学薄膜技术近十年来所取得的主要进展。高能激光对光学薄膜提出了苛刻的要求,连续式磁控溅射大批量制造建筑物窗口玻璃上的阳光薄膜有着巨大的市场,记录介质薄膜仍然是开发光学信息存贮的关键,所有这些都是对光学薄膜技术的挑战。     

光学薄膜的研究

本文概述了当前薄膜光学领域里的一些研究工作,并就具体的研究方向,如:光学薄膜的离子束辅助淀积和离子束溅射、低能离子镀技术,光学薄膜的成核、生长和微结构的模型,薄膜特性的检测和微结构分析等作了论述。