腔室状态对图形化蓝宝石衬底刻蚀工艺的影响

图形化蓝宝石衬底是近年来针对高度发光二极管的应用要求发展起来的一种新技术。通过利用自主研制的工业化感性耦合等离子体刻蚀机对图形化蓝宝石衬底的刻蚀工艺进行了研究。采用光学发射光谱仪和扫描电镜研究了PSS生产过程中腔室状态的变化对蓝宝石的刻蚀速率、选择比和图形形貌的影响。研究结果表明:随着反应腔累积放电时间的增加,刻蚀速率呈现下降趋势,选择比呈先上升然后下降的趋势。该趋势由反应腔室内表面上的沉积物所引起。     

一款新型杜比定向逻辑解码器

进入九十年代,发烧友已不满足单纯玩Hi—Fi,更多的人开始组建具有最新视听感受的家庭影院,在家中欣赏杜比四声道立体声影片那令人震撼的全方位音响效果。组建一套家庭影院音响只需在原Hi—Fi器材基础上增加一台杜比定向逻辑解码器和相应的中置、环绕音箱即可。目前进口解码器价格昂贵,国产品多为低档模拟环绕声产品,不具备杜比解码功能。怎样选择一台质优价廉的解码器是大家关心的问题,在此向大家介绍一款国内最新推出的CYMET(绅士)E1080杜     

一套4000元价位的家庭影院音响器材

<正> 家庭影院必须包括如下设备:(1)影源,家庭中一般以影碟机和录像机为主。(2)显示器,家庭中多采用大屏幕彩电。(3)四声道立体声还音设备。这在家庭中有两种方案:一种是采用解码器加四个独立功放的形式,这种配置价格较高,另一种采用带有解码器的多声道功放,通常称为AV功放,这种产品价格相对低一些。(4)扬声器放声系统,含有主音箱和环绕音箱各一对,中置音箱一只等。 家庭影院不仅用来在家中看一些电影片子,更重要的是要达到和在电影院中看电影一样的感觉,这种感觉包括图像和声音两个方面。图像画面应尽量大,在家庭中一般应配置25英寸以上彩色电视机,如有条件安装投影电视则更好。从声音来说,现在的立体声电影都采用杜比立体声,即一种     

AVS视频和音频编码标准的应用

AVS标准是《信息技术：先进音视频编码》系列标准的简称，AVS标准包括系统、视频、音频、数字版权管理等四个主要技术标准和一致性测试等支撑标准，是我国具备自主知识产权的第二代信源编码标准。本文简要探讨AVS标准概况，下期刊登《AVS—S音视频监控标准介绍与展望》，期望读者继续关注。     

聚丙烯/聚四氟乙烯纤维复合材料力学性能及发泡行为研究

将聚四氟乙烯纤维和相容剂加入聚丙烯中,在二次开模条件下注塑成型制备出聚丙烯/聚四氟乙烯纤维微发泡复合材料,研究了聚四氟乙烯纤维用量对复合材料力学性能、耐热性及发泡行为的影响。结果表明:当聚四氟乙烯纤维用量为2%时,复合材料的拉伸强度提高了13%,弯曲模量提高了16%;聚丙烯微发泡复合材料具有完美的泡孔结构,其泡孔平均直径为71μm,泡孔密度为1.26×10~6个/cm~3。     

1OOV高压pMOS器件研制

研制出适用于100V高压集成电路的厚栅氧高压pMOS器件.在器件设计过程中利用TCAD软件对器件结构及性能进行了模拟和优化,开发出与0.8μm n阱标准CMOS工艺兼容的高压工艺流程,并试制成功.实验结果表明,该器件关态击穿电压为-158V,栅压-100V时饱和驱动电流达17mA(W/L=100μm/2μm),可以在100V高压下安全工作.     

脉冲激光沉积技术制备超导铌薄膜及其特性研究

采用脉冲激光沉积技术(PLD)在硅衬底上制备超导Nb薄膜,并通过X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、高分辨X射线光电子能谱(XPS)、综合物性测量系统(PPMS)等测试分析手段,分别考察了不同激光能量、靶基间距、衬底温度对Nb薄膜晶体结构、表面形貌和电学性能的影响。结果表明,Nb薄膜在(110)晶向择优生长,并且随着激光能量的增加,薄膜的结晶质量逐渐提高;合适的衬底温度和靶基间距有利于提高Nb薄膜的结晶性能;在激光能量280 mJ、靶基间距5cm、加热盘温度650℃时制备所得Nb薄膜在(110)晶面半峰宽(FWHM)为0.39°,超导转变温度(Tc)为8.6K,且Nb薄膜具有良好的结晶性能和超导特性。     

磁控溅射法制备低电阻率Ta薄膜研究

在无匹配层、常温、溅射气体为纯Ar的条件下,利用直流磁控溅射法在Si表面制备了Ta薄膜,系统研究了工作气压及直流功率对薄膜电阻率及微观结构的影响。分别用四探针测试仪、X射线衍射仪、原子力显微镜对不同条件下制备的Ta薄膜电阻率、相结构及表面形貌进行表征。结果发现,随溅射气压升高,高阻β相出现,薄膜电阻率随之增大;在相同溅射气压下,随着溅射功率的增加,薄膜电阻率先降低后升高。优化溅射工艺后制得的Ta薄膜的电阻率低至29.7μΩ·cm。     

ULSI铜互连线技术中的电镀工艺

通过对电镀液中加入适当的整平剂和采用三步电流法,成功地将工业镀铜技术应用于ULSI铜互连线技术中,实现了对高宽比为1μm∶0.6μm的刻孔的无空洞、无裂缝填充．方阻测试表明,所镀铜膜的电阻率为2.0μΩ*cm,X射线衍射分析结果显示出的Cu（111）的致密结构非常有利于互连线技术中高抗电迁移性要求．     

纳米氧化亚铜的制备及其光催化性能研究

通过比较不同的制备方法,选用CuC l水解法制备纳米Cu2O。试验确定了在常压条件下制备纳米Cu2O的最佳反应条件,并利用X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)对制得的纳米Cu2O进行表征。以该纳米Cu2O为光催化剂,对酸性品红溶液进行光催化氧化降解,考察了纳米Cu2O的加入量、废水浓度、降解时间等对降解性能的影响。结果表明,对于浓度为5 mg/L的酸性品红溶液,当催化剂与酸性品红溶液的固液比为5.6g/L时,太阳光辐照6 h后,降解率能够达到97.96%。另外,重复使用催化剂7次之后,其光催化降解率仍能达到70%以上。