微结构成型的革命化技术：全息微光刻术

不久前,针对传统的光学微光刻术,出现一种效率更高的技术,这就是利用全息图而不是一般用透镜,将掩模的结构复制在芯片上.按此方法,可利用常规的紫外激光,在大的照明范围内达到0.25μm的分辨率.随着电子存储元件不断地小型化,而基底面积越来越增大,传统的光刻方法,碰到了它们工艺上的极限.透镜不断增大的同时,像差也增大,这就引起了图像的畸变,到目前为止还不能够大于25×25mm~2的视场,在高分辨率应用情况进行一次性照明.有一种不用透镜也行的光刻方法,它与传统方法相比,有很多优点,也许能够使光学光刻的结束期延长.这种无透镜方法是以全息术为基础的.     

电路板的检查方法

目前对于印刷电路板的轨迹、焊斑、焊眼的全面检查越来越重要。除了电子学功能检查之外,对焊接过程的判断,常用光学测量方法。然而,利用显微镜不能够测得垂直尺寸和轮廓。在这方面采用一种新的用于测量粗糙度、轮廓和测量面形的测量仪器,它是利用激光束来测定与评价所有的空间尺寸。     

利用微芯片的图象投影

美国得克萨斯仪器公司研制出一种能在大型银幕上投影图像的元件,采用了微系统工程的制作方法,达到成熟阶段并投放市场。在一块芯片上集成的单片反射镜超过了44万个,可使数字图象信息转换成可见的图像。     

世界上最小的激光干涉仪

德国的IOT集成光学工艺开发公司和Euchner公司合作,开发出一种新的激光干涉仪,据厂家介绍是世界上最小的激光干涉仪。被动式传感器头直径12mm,长度90mm,装有光学芯片(2mm×5mm×34mm)由IOT公司设计制作;外围系统由Euchner公司制。 由于采用了集成光学工艺,使传感器头实现了极小的微型结构,其机械稳定性特高,可用于恶劣的环境。如测量范围到500mm     

微电子学应用专业会报告

由联邦德国研究与技术部提议,曾于柏林举办了短期信息交流会,其间,来自实用工业协学与研究单位的专家们,就微电子应用的意义交换了意见。讨论中指出,具有竞争力的电子仪器的开发与生产,先决条件是不失时机地抓住最新一代各种集成电路(1Cs),特别应当注意的是特殊应用的电路(ASIC)。在信号处理中,以下几点尤为重要:     

微系统工程的关键问题:连接与装配

一个由电子学、微机械和光学与光电子学元件构成的完整的微系统,其整体结构所保留着一种理想的方式。由于这方面一同用到的工艺有一部分区别很大,在可预见的一段时间里,只能是一种混合结构。评论家们往往估计不足的一点正是装配与连接技术。它们对整个系统的可靠的功能有着关键性的