电子能谱法研究GCr15钢注Ar~+及GCr15钢镀Ti、Cr后的Ar~+束混合

对GCr15钢注Ar~+(能量60keV、剂量φ为0.5、1.0、2.5×10~(17)Ar~+/cm~2三种)及GCr15钢镀Ti、Cr后的Ar~+束混合(能量60keV、剂量φ为0.5、1.0、2.0×10~(17)Ar~+/cm~2各三种)样品进行了俄歇(AES)及俄歇剖面(AES—PRO)分析。结果表明:(1)样品表面含C层随φ增加而增厚;(2)混合元素Ti、Cr成分的Auger峰一峰高与O峰一峰高之比随φ增加而增加。如混合初期Ti:O≈1:2(原子百分比),而当φ达到2.0×10~(17)Ar~+cm~2/时,Ti:0≈1:1,这种计量比的变化将导致样品表层物相和结构的变化;(3)AES—PRO分析中,未见到样品表层中Ar成分典型分布的存在。对上述观象进行了简要讨论。     

用俄歇电子能谱研究 N_2~+离子注入的钢的表面层

对N_2~+离子注入的GCr15轴承钢样品进行了俄歇分析。样品分为两类:氮注入的GCr15钢和GCr15钢镀Cr后用氮轰击。两者的注入条件相同,能量为100KeV,剂量为3×10~(17)N_2~+/厘米~2和6×10~(17)N_2~+/厘米~2。俄歇分析清楚地给出了有关注入情况的信息,如离子注入对氧在钢表面吸附的影响,氮在钢表层的分布以及在不同剂量下Cr向基体内推移的情况等。观察到最大相对浓度的饱和值,在我们的实验条件下约为23at％。     

GGr15钢表面镀Ti、Cr后N~ 、A_r~ 束混合的电子能谱法研究

利用PHI—550型多功能电子谱仪对GCr15钢镀Ti、Cr后用N~ 及Ar~ 和N~ 轰击过的样品进行了AES、AES—PRO(俄歇部面)及ESCA分析研究。结果表明:(1)GCr15钢镀Ti、Cr后,用N~ 轰击,氮的注入效果明显,混合效果不明显,轰击可不同程度地改善镀层同基体的结合;用Ar~ 轰击则混合效果较明显,注入效果不明显。对表面改性来说,前者效果好,后者效果不理想。(2)改性与样品表层生成的TiO_2、TiN、TiG;Cr_2O_3、CrN等成分有关,C的存在对GCr15钢的表面改性有益。     

关于Ni-W-Mg和Ni-Mg合金表面Mg的富集问题

我们用低能氩离子(2keV)对于没有经过热处理的氧化物阴极基金属Ni-W-Mg合金以及含镁量较高的Ni-Mg合金进行了剥层,并用PHI 550俄歇电子能谱仪对经过不同剥层时间间隔的样品表面进行了分析。从各元素的俄歇电子能谱可以看出,在上述合金样品表面存在有镁的富集层。本文就Mg富集形成的原因,进行了有关实验,并且作了讨论。     

银基镀金继电器失效的表面研究

利用PHI—550型多功能电子谱仪分析了银基镀金继电器簧片样品,发现银透过镀层于表面富集。这种富集引起样品变色,使器件性能变坏。对银富集的原因及过程做了讨论。