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采用磁控溅射的方法,在高真空条件下,沉积金属Fe到Si(100)衬底上,然后通过真空退火炉在不同温度条件下对样品进行热处理,直接形成了β-FeSi2薄膜.采用X射线衍射仪(XRD)对样品进行了晶体结构分析,利用卢瑟福背散射(RBS)对Fe-Si化合物的形成过程中的Fe原子和Si原子的互扩散机理进行了研究,利用扫描电镜(SEM)对样品表面的显微结构进行表征,结果表明,在900℃条件下退火能够得到质量很好的β-FeSi2薄膜,超过这一温度β相将开始向α相转化,到1000℃,β-FeSi2全部转化为α-FeSi2。 相似文献
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利用直流磁控溅射制备了TbFeCo/Si薄膜,采用可变入射角全自动椭圆偏振光谱仪,测量了用磁控溅射法制备的TbFeCo/Si薄膜的光学常数,测量能量范围为1.5~4.5eV。分析了不同氩气压强对磁控溅射制备的TbFeCo/Si磁光薄膜的光学常数的影响。实验结果表明,在低能区域,样品的所有光学常数均随压强增加而增加,受制备工艺影响较大。但在高能区域,光学常数随压强的变化相对说来不再明显. 相似文献
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采用磁控溅射沉积方法制备Mg2Si半导体薄膜。首先在Si衬底上沉积Mg膜,随后低真空热处理。采用X射线衍射、扫描电镜、拉曼光谱对Mg2Si薄膜的结构进行表征。研究了在低真空(10-1~10-2Pa)条件下热处理温度(350~550℃)和热处理时间(3~7h)对Mg2Si薄膜形成的影响。结果表明,低真空热处理条件下制备了单一相Mg2Si半导体薄膜,400~550℃热处理4~5h是最佳的热处理条件。在拉曼谱中256和690cm-1处观察到两个散射峰,这与Mg2Si的拉曼特征峰峰位一致。 相似文献
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针对现有空中手写技术存在的不足,提出了一种改进方案.增加初始化设置环节,利用惯性传感器进行数据采集,以"激光-平面定位法"实现远距离空间坐标的获取,并将数据实时传输至电脑端进行处理.增加了现有技术未考虑到的显示屏幕与电子笔的实际空间大小、相对位置和指向等数据的获取,并建立这些数据之间的对应关系,实现电脑光标与手写笔笔尖... 相似文献
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利用磁控溅射方法,溅射室背底真空优于2.0×10-5 Pa,采用不同的功率在Si(100)(电阻率为7~13 Ωcm)衬底上沉积一层铁薄膜(150~330 nm),然后在900 ℃,15 h背底真空条件下(4×10-4 Pa)退火,形成了β-FeSi2。采用扫描电子显微镜(SEM)对其表面形貌结构进行表征,并采用X射线衍射仪(XRD)对其进行了晶体的结构分析,当溅射功率为70~100 W时,主要衍射峰来自β-FeSi2,但同时在2θ=45°处有较大的FeSi峰,在2θ=38°附近出现较大的Fe5Si3峰。研究结果表明,制备β-FeSi2薄膜的最佳溅射功率为110 W,在900 ℃退火15 h。 相似文献
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采用可变入射角全自动椭圆偏振光谱仪,测量了用磁控溅射法制备的Si/Ge异质多层膜结构的光学常数,测量能量范围为1.5-4.5eV,分析了不同氩气压强对磁控溅射制备的Si/Ge异质多层膜结构的光学常数的影响,实验结果表明,在低能区域,随压强的增加,多层膜结构的所有光学常数均有不同程度的增加,但在高能区域,溅射气压对光学常数的影响不再明显,多层膜结构的复介电常数的实部和虚部及折射率n的峰位随压强增大而向低能方向位移,多层膜结构的消光系数k的峰位随压强的变化很小,但其峰值随压强的增加而增加。 相似文献
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本文结合了城市燃气企业的市政燃气管道工程施工特点,分析了多项目管理的基础理论及应用方法,通过组织模式、资源优化配置和项目分类及考核等理念,重点对市政燃气工程多项目管理的具体措施进行了探讨,为城市燃气企业科学合理的市政燃气工程项目管理提供了启发。 相似文献