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为了分析逆向调制器的反射光场和反射光强的变化规律,利用532 nm激光照射逆向调制器阵列,测试得到了离焦量、入射角变化时的逆向调制器的反射光场和反射光强,得到了阵列调制器反射光强与单个逆向调制器反射光强关系.测试结果表明,一定范围的正离焦使反射光束发散角变小,反射光能量聚焦度好,负离焦相反.入射角使反射光场发生畸变,反...  相似文献   
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