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针对端子冲件在冲模调试过程中出现的弯曲折痕问题,采用理论分析,在进行力学计算和分析后,并利用有限元软件LS-DYNA对其弯曲变形过程进行进一步数值模拟分析,并最终给出最优解决方案.利用该解决方案设计和制造的端子冲模在生产上已获成功,不但解决了端子冲件在冲压过程中出现的折痕问题,还大大缩短了冲压模具的设计制造周期,降低了成本.生产实践表明给出的解决方案是有效和可行的. 相似文献
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本文根据加载激光的工艺参数以及薄膜、基体的材料特性,建立了薄膜与基体的有限元模型,对高斯激光在加载在薄膜表面后的温度场进行有限元模拟,获得膜基系统中温度随时间的变化关系以及薄膜界面结合处的温升规律。并在此基础上根据薄膜和基体的热膨胀性能,进行薄膜和基体的应力场模拟,获得了膜基系统的应力场随时间的变化关系。模拟结果表明:在激光加载过程中,薄膜和基体中的温度场随着时间增加,由于热传导系数的差异在薄膜和基体之间产生温差。在膜基系统中产生的应力场主要集中在薄膜内部,膜基界面结合处产生的应力较大会导致薄膜的脱粘。模拟结果定性地反映了薄膜和基体中温度和热应力的变化规律,为分析激光划痕法的作用过程提供了一定的理论依据,对研究膜基系统失效进程具有重要意义。 相似文献
24.
一、显示器件 ——信息产业的基础产品 国外专家中流行这样一种比喻:如果把集成电路比作电子装备的心脏,那么显示器就是电子用品的容貌,它比较确切和形象地突出了显示器件在当代电子产品与信息社会中的作用与地位。 相似文献
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<正> 利用电子自旋共振俘获技术检测和表征活泼自由基,近二十年来得到广泛的重视。所谓电子自旋共振俘获技术(简称自旋俘获技术)就是利用某些有机抗磁化合物捕集短寿命活泼性自由基,生成稳定的氮氧自由基, 相似文献
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无论是蒸发沉积、离子溅射沉积、离子束沉积还是其它类型的沉积,所沉积的薄膜的微观结构、薄膜与衬底间的界面性质与沉积粒子的性质、能量等因素密切相关。本工作利用俄歇电子能谱仪(AES)所测得的俄歇信号时间曲线(AST),俄歇的价带电子跃迁(AVV)图以及俄歇信号相对强度与沉积厚度的相互关系曲线研究和分析银蒸发束(原子、分子、原子团束)、低能(22eV)和较高能(320eV)Ag~+束在室温Si(111)衬底表面上的沉积过程和可能发生的界面反应。实验结果表明:(1) 蒸发沉积时,银在衬底表面上首先是形成均匀的原子层,接着聚集成为小岛,随后才形成为完整的薄膜;(2) 低能(22eV)Ag~+束沉积时,薄膜为均匀的层状结构,也就是说,薄膜的生长方式是以层层生长方式进行的,衬底与薄膜间的界面在所讨论的1nm范围内是未反应的;(3) 高能(320eV)Ag~+束沉积时,在沉积的初始阶段,界面上会发生严重的混杂效应,以致于形成一种银和硅的混合相结构,在此之后,界面混杂才慢慢停止,形成完整的Ag薄膜。 相似文献
28.
研究了不同Ti含量(0.03 mass%和0.15 mass%)的耐磨钢中Ti的析出行为及其对冲击磨损性能的影响。结果表明:低Ti含量钢中的大尺寸析出相占比明显低于高Ti含量钢;亚微米级/微米级(Ti, Mo)N析出相在温度较高的液相或者液/固两相区析出,多呈尖锐棱角的不规则多边形或矩形;纳米级(Ti, Mo)(C,N)析出相在温度较低的固相区析出,多为细小的近球状。低Ti含量钢的冲击磨损性能优于高Ti含量钢,亚微米级/微米级(Ti, Mo)N析出相使材料断裂的临界应变能降低,基体和析出相分离所需的应力下降,容易产生微裂纹,导致在冲击磨损过程产生大量犁削;纳米级(Ti, Mo)(C,N)析出相使基体的应变能低于裂纹扩展所需要的界面能,能够阻止在冲击磨损过程中产生的切削,使得耐磨性增加。 相似文献
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