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设计了一种12位30 MHz 1.8 V流水线结构A/D转换器,该A/D转换器采用相邻级运算放大器共享技术和逐级电容缩减技术,其优点是可以大大减小芯片的功耗和面积.电路采用级联一个高性能前置采样保持单元和五个运放共享的1.5位/级MDAC,并采用栅压自举开关和动态比较器来降低功耗.结果显示,该ADC能够工作在欠采样情况下,有效输入带宽达到50 MHz.在输入频率达到奈奎斯特频率范围内,整个ADC的有效位数始终高于10.4位.电路使用TSMC 0.18 μm 1P6M CMOS工艺,在30 MHz全速采样频率下,电路功耗仅为68 mW. 相似文献
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开关电源PFC控制芯片电路和应用分析 总被引:1,自引:0,他引:1
单相PFC已进入实用阶段,在中小功率单相有源功率因数补偿控制芯片中,UC3854最具代表性。详细分析了功率因数校正原理和常用的因数校正芯片UC3854内部结构电路,利用其设计出了一种稳定的600W单相整流PFC开关电源,具有高功率因数、高效率、低谐波、低噪声的优点。并介绍分析了设计电路以及实验测试结果。 相似文献
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从特征尺寸的缩小看光刻技术的发展 总被引:1,自引:0,他引:1
从特征尺寸不断缩小变化的角度阐述了近代光刻技术发展的历程。指出90nm节点的主流光刻技术是193nmArF光刻;193nm浸入式光刻技术作为65nm和45nm节点的首选光刻技术,如果配合二次曝光技术,还可以扩展到32nm节点的应用,但成本会增加;如果特征尺寸缩小到22nm和16nm节点,EUV光刻、无掩模光刻以及纳米压印光刻等将成为未来发展的重要研究方向。在对各种光刻技术的原理、特点以及优缺点等分析对比的基础上,对未来主流光刻技术的发展做了一定的展望。 相似文献
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本文描述了一种低功耗低噪声大带宽锁相环路(PLL),给出了锁相环各组成单元模块的设计思路及电路结构。设计采用CMOS0.35μm工艺。压控振荡器的电源电压为3V,工作在900MHz-2GHz,典型功耗为3.4mW。电路占芯片上面积为450X400μm。 相似文献