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21.
AIBN/Ni(naph)2/PPh3催化体系引发苯乙烯反向ATRP   总被引:1,自引:0,他引:1  
以AIBN/Ni(naph)2/PPh3为均相引发剂引发苯乙烯聚合,所得试样相对分子质量与转化率呈线性增加,相对分子质量分布约为1.5。紫外光谱分析表明,聚合机理为反向原子转移自由基聚合。  相似文献   
22.
针对工业机械弹性传动系统中出现的复杂速度波动问题,根据弹性多质点共轴运动系统的传动特性推导了机械部分的运动微分方程,再由直流电机的动态特性方程组建立了整个系统的数学模型.然后根据给定的系统输入转速,利用简化后的系统数学模型估算出了负载质量体的输出转速.在此基础上,实时计算了相邻质量体之间的速度差值,并利用比例调节器和比例积分调节器分别对其进行了动态调整,再把调整后的总速度补偿量叠加到系统输入速度给定端,为机械传动系统提供了电子阻尼作用,达到了抑制速度波动的目的.最后,通过搭建三质点共轴运动系统试验台验证了该算法的有效性.研究结果表明:应用基于模型的控制算法,在开环情况下控制弹性多质点共轴传动系统,达到了很好的控制效果.  相似文献   
23.
以AIBN/Ni(naph),/PPh3为均相引发剂引发苯乙烯聚合,所得试样相对分子质量与转化率呈线性增加,相对分子质量分布约为1.5.紫外光谱分析表明,聚合机理为反向原子转移自由基聚合.  相似文献   
24.
我们用STM在低压大电流条件下对Si(111)7×7表面进行了原子操纵研究,这种方法即可从表面提出原子而形成沟槽结构,又可将提出的原子重新植入样品表面形成一维凸起,在样品表面形成有序排列,从而成功地实现了对原子群体的“有序移植”  相似文献   
25.
Mo沉积成膜质量与磁控溅射条件间关系的STM研究   总被引:2,自引:0,他引:2  
利用扫描遂道显微镜(STM)和X射线小角衍射(SAXRD)研究了几种经常使用的直流磁控溅射条件(包括:Ar气压强06Pa、溅射电流100mA、200mA及Ar气压强04Pa、溅射电流100mA三种条件)下所沉积的Mo单层薄膜的质量及相同溅射条件下不同溅射时间(35s到220s)对成膜质量的影响。实验的结果表明:降低Ar气压强提高溅射电流(即提高氩离子加速电压)都会使形成的薄膜更致密表面更光滑。相同条件下随沉积时间的增加,薄膜的晶粒线度随之增大,晶粒间界变得明显粗糙度变大。几乎所有的样品都观察到晶粒生长有明显的优先取向。用溅射沉积成膜的物理过程对以上结果作了解释  相似文献   
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