分组密码IDEA的FPGA实现

根据IDEA密钥扩展方式和加解密流程,采用FPGA技术,对IDEA的功能模块进行了划分和设计,重点介绍了该文中所设计的关键功能模块的实现方法.给出了Verilog语言编写的实现该算法的关键性源代码.最后,对该IDEA算法加/解密模块进行了较全面的测试及性能分析.理论分析和仿真的结果表明,该模块能够准确实现加密和解密.     

氧化钽薄膜表面形貌和光学性能的研究

本文采用电子束蒸发配以Kaufman离子源产生的氧离子辅助沉积了Ta2O5薄膜,用原子力显微镜（AFM）表征了薄膜的表面形貌、表面粗糙度,探讨了Ta2O5薄膜在此工艺下的表面质量.用分光光度计测试了不同厚度下薄膜的透射率,计算出了其折射率.实验及分析结果表明：所制备的Ta2O5薄膜表面平整度高,是弱吸收薄膜,随薄膜厚度的增加短波截止波长向长波方向略有漂移;折射率随膜厚的变化不大,此制备工艺的可重复性强,制备薄膜性能稳定;薄膜表面粗糙度随膜厚的增加而增加,但是增加不大,所制备Ta2O5薄膜是理想光学薄膜;离子束的加入,使得薄膜表明形貌变化更加复杂,打破了热蒸发制备薄膜的柱状生长模式.     

（1-x）TiO2-xTa2O5薄膜的光学性能研究

TiO2-xTa2O5薄膜是较新颖的光学薄膜,由均匀混合的两种化合物薄膜材料作为膜料研制而成,本文采用离子辅助蒸发的方法,以不同配比的Ta2O5和TiO2混合物为初始膜料在K9玻璃上制备了TiO2-xTa2O5混合薄膜,并对其光学性能进行研究。实验结果表明,TiO2-Ta2O5薄膜在可见光范围内有较高的透射率,消光系数在10-3～10．4数量级,折射率在1．80～2．07范围内变化（550nm）,是理想的光学镀膜材料。随着Ta2O5含量从0增加到20％,光学带隙从3．266eV单调增加到3．417eV,并用Kayanuma提出的模型解释了透射谱中吸收边的漂移现象。