一种窄带导模共振负滤光片的设计

由于弱调制光栅可以等效为平面波导,本文从平面波导的本征方程出发,导出垂直入射时弱调制光栅共振位置的表达式.分别以单层、双层膜系导模共振光栅结构为例,研究了光栅层厚度、周期、占空比对共振波长的影响.结合光学薄膜理论设计出一种窄带导模共振负滤光片.由于导模共振对入射波参数和光栅参数都极为敏感,具有窄带效应,用来制作窄带负滤波片非常可行.     

采用原子层沉积技术在管道内壁镀铝膜的分析研究

研究分析了采用原子层沉积技术在大长径比管道内壁镀制铝膜的可行性。首先,建立了管道内壁气体吸附动力学方程,通过分离变量法解吸附动力学方程,计算出反应前驱体在管道内壁达到饱和化学吸附的时间;其次,根据铝晶胞的面心立方结构,计算出每层原子层沉积周期所镀制的铝膜厚度;最后,理论计算能实现正常波导的管道内壁所需要的铝膜最小厚度,得出原子层沉积所要循环的周期数。     

真空度对TiO_2薄膜光学和结构特性的影响

为制备高性能TiO2光学薄膜,采用离子束辅助,电子束蒸发沉积的方法,研究不同真空度对薄膜性能的影响。真空度随真空室内通氧量增大从1.3×10-3Pa变化到2.5×10-3Pa,得到不同光学和结构特性的TiO2薄膜。采用分光光度计测试其光谱,SEM测试其表面形貌。测试结果发现,TiO2薄膜的透过率峰值随真空度降低而增大,折射率和消光系数随真空度降低而减小,薄膜表面形貌随真空度降低从致密变粗糙。在真空度2.0×10-3Pa的工艺条件下,成膜质量最佳,此时最大透过率92%,折射率在2.45～2.20之间,消光系数在10-4以下。根据Cauchy公式拟合其色散规律,拟合曲线和采用包络法计算得到的曲线较好重合,折射率随波长的变化公式为n(λ)=2.12+5.69×104/λ2+8.07×107/λ4。     

一种双通道窄带滤光片的设计与制备

对光子晶体技术在滤光片设计中的应用进行了可行性研究。利用一维光子晶体进行了双通道窄带滤光片的设计,并利用离子束辅助沉积方法进行了滤光片的镀制。同时研究了膜层的误差对滤光片光谱性能的影响,表明其敏感层主要是缺陷层。实验结果表明,运用光子晶体概念进行双通道窄带滤光片设计是可行的。     

非共面三光束干涉实现二维光子晶体的光束设计

光子晶体概念自1987年的被提出以来,科学家们一直致力于在实验室用不同的手段合成不同材料和不同结构的光子晶体。利用正格子和倒格子理论对非共面三光束干涉的情况进行了系统而全面的分析,给出了晶格结构与入射光束配置之间的关系。研究表明,5种二维Bravais晶格都可以由非共面三光束干涉来形成,并进行了理论模拟。     

矿山开采对沈北地区第四系含水层影响分析

从区内第四系含水层、煤系地层特征、开采顶板冒裂带高度计算及其影响等方面,分析了矿山开采对沈北地区第四系含水层影响。为区内矿山开采中对第四系含水层的保护提供了一定的依据。     

借助周界商求解铸钢件冒口尺寸的新方法

在铸钢件冒口设计中，引进了周界商的概念，并借此推导出了铸钢件冒口新的补缩方程，得出一种新的冒口尺寸计算方法。分析实例表明，用此法得出的计算结果符合冒口补缩的基本规律，而且计算简便，可用于铸钢件冒口的尺寸计算。     

某低轨星载天线热控防护复合膜层的制备及性能

针对工作在低地球轨道的某星载天线(基材为3A21铝合金)的结构特点和热控防护要求,采用离子束辅助真空蒸发镀膜技术依次在其上沉积了作为热控防护膜层的二氧化硅和氧化铝,以及作为保护膜的氧化铟锡。考察了膜厚以及基底表面粗糙度对膜层性能的影响,评估了膜层的附着力、抗热震性能、耐原子氧性能和耐紫外辐照性能,以及天线的电信性能。所得热控防护复合膜层能满足实际应用要求。     

锗薄膜在低温下的折射率研究（英文）

利用电子束蒸发方法在双面抛光的ZnSe基底上镀制单层Ge薄膜.在80 K~300 K温度范围内,采用PerkinElmer Frontier傅里叶变换红外光谱仪低温测试系统每20 K测量Ge单层在2~15μm波长范围的透射率.采用全光谱反演拟合方法得到Ge单层在不同温度下的折射率.结果显示,Ge单层折射率均随波长增大而减小,且变化趋势基本相同.利用Cauchy色散公式对折射率波长色散关系进行拟合,得到Ge薄膜材料折射率温度/波长色散表达式为:n(λ,T)=3.29669+0.00015T+5.96834×10~(-6)T~2+0.416 98/λ~2+0.173 84/λ~4.最后,验证了Ge单层膜折射率温度/波长色散公式的准确性.     

一种具有抗静电反红外诱导滤光片的设计与制备

对一种具有抗静电反红外且在可见及近红外高透过的滤光片进行了研究。采用诱导滤光片的设计理论讨论了膜层厚度及薄膜常数对滤光片透射率及反射区的影响规律,采用离子束辅助沉积方式和磁控溅射的方式对设计膜系进行了制备工艺研究,重点讨论了不同工艺条件下金属层的薄膜常数的变化规律及其对滤光片性能的影响。最终设计的滤光片在750~850 nm谱段具有高达90%以上的透过率、2 500 nm以后谱段反射率高达90%,表面电阻小于300 ,该滤光片具有很好的抗静电及反红外性能。