全文获取类型
收费全文 | 438篇 |
免费 | 28篇 |
国内免费 | 21篇 |
专业分类
电工技术 | 46篇 |
综合类 | 33篇 |
化学工业 | 62篇 |
金属工艺 | 13篇 |
机械仪表 | 24篇 |
建筑科学 | 32篇 |
矿业工程 | 35篇 |
能源动力 | 22篇 |
轻工业 | 26篇 |
水利工程 | 19篇 |
石油天然气 | 53篇 |
武器工业 | 1篇 |
无线电 | 53篇 |
一般工业技术 | 37篇 |
冶金工业 | 11篇 |
原子能技术 | 6篇 |
自动化技术 | 14篇 |
出版年
2024年 | 2篇 |
2023年 | 10篇 |
2022年 | 21篇 |
2021年 | 11篇 |
2020年 | 16篇 |
2019年 | 22篇 |
2018年 | 12篇 |
2017年 | 9篇 |
2016年 | 9篇 |
2015年 | 8篇 |
2014年 | 28篇 |
2013年 | 11篇 |
2012年 | 29篇 |
2011年 | 30篇 |
2010年 | 27篇 |
2009年 | 16篇 |
2008年 | 33篇 |
2007年 | 18篇 |
2006年 | 27篇 |
2005年 | 22篇 |
2004年 | 22篇 |
2003年 | 13篇 |
2002年 | 9篇 |
2001年 | 15篇 |
2000年 | 7篇 |
1999年 | 13篇 |
1998年 | 5篇 |
1997年 | 3篇 |
1996年 | 1篇 |
1995年 | 2篇 |
1994年 | 5篇 |
1993年 | 4篇 |
1992年 | 5篇 |
1991年 | 4篇 |
1990年 | 6篇 |
1989年 | 4篇 |
1988年 | 1篇 |
1987年 | 2篇 |
1985年 | 1篇 |
1984年 | 1篇 |
1983年 | 1篇 |
1979年 | 1篇 |
1977年 | 1篇 |
排序方式: 共有487条查询结果,搜索用时 0 毫秒
21.
22.
23.
为不断提高制造厂的产品质量,我们开发了“用户之声”专栏。欢迎广大用户充分利用这专栏,反映机床及其配套产品使用中出现的问题,让制造厂解答,以便充分发挥产品的效能。下面就是成都市清江机械厂厂长对我们去年第12期用户之声的答复。 相似文献
24.
本文针对"1.2 MeV/10 mA高频高压型电子加速器及束线"项目中钨丝阴极热发射电子枪的控制需求,在了解了系统组成和工作原理的基础上,采用三极式平板热阴极发射电子枪,阴极材料使用钨丝,灯丝加热电源由发电机供电,引出电压从加速管电极分压获得。通过设计一种基于可编程逻辑控制器(Programmable Logic Controller,PLC)的控制系统,实现了电子枪引出1μA~50 mA 4个数量级范围的直流电子束。该控制系统采用PLC作为设备控制器,LabVIEW软件作为用户界面,通过通信协议(Object Linking and Embedding for Process Control,OPC)接口实现控制软件与设备控制器的通讯。实验测试表明,系统具有可靠稳定、灵活高效等特点。 相似文献
26.
27.
化学机械抛光是集成电路制造工艺中十分精密的技术。在本文中,为了改善抛光效果,分表讨论了非离子表面活性剂和氧化剂在CMP过程中作用。我们主要分析了非离子表面活性剂对片内非均匀性和表面粗糙度的影响。同时,我们从静态腐蚀速率、电化学曲线和剩余高低差的角度,讨论了在不加BTA条件下,不同氧化剂浓度的抛光液的钝化特性。实验结果明显地表明:加入了非离子表面活性剂的抛光液,更有利于改善抛光后的片内非均匀性和表面粗糙度,并确定2vol%体积分数是比较合适的浓度。当抛光液中氧化剂浓度超过3vol%,抛光液拥有较好的钝化能力,能够有效减小高低差,并有助于获得平整和光滑的表面。根据这些实验结果,非离子表面活性剂和氧化剂的作用进一步被了解,将有助于抛光液性能的改善。 相似文献
28.
抛光液组成对LiNbO3 CMP去除速率的影响 总被引:2,自引:1,他引:2
影响LiNbO3化学机械抛光速率的因素很多,如抛光液组成、抛光垫质量、抛光工艺参数等.主要研究了抛光液对去除速率的影响,采用磨料 碱 活性剂的配方,首先分析了抛光液各成分对去除速率的影响机理,然后结合各因素的部分相关实验,从机械、化学角度分析其性质特点,对LiNbO3晶片的去除速率进行了研究.结果表明,在保证获得较好抛光表面的前提下,采用的磨料质量分数越高越好,但活性剂体积分数不宜过高,溶液pH值采用无机碱进行调节,即可获得较高的去除速率. 相似文献
29.
硅基光调制器技术是当前硅基光子学技术领域较为活跃的一个分支。结合硅基光子器件的材料特性和常见横截面波导结构, 研究了硅基MZI 结构光调制器的静态消光比特性, 论述了光调制器发“1” 码时所加峰值电压、工作波长选择和移相器几何尺寸对静态消光比的影响。研究表明, 光调制器发“1” 码时所加峰值电压较小时, 消光比的变化量较大; 在其他参数相同的情况下, 工作波长的选择对光调制器的消光比有很大影响; 在调制器尺寸选择方面, 倾向于选择两臂较长, 但两臂长度差较小的结构, 因为此时的消光比较大, 同时对工作波长变化不敏感。 相似文献
30.
针对陕南旬阳地区某电厂工程在地基处理过程中遇到的膨胀土问题,结合场址附近圆砾资源丰富的地质条件,提出了一种新的改良方法——在膨胀土中掺入圆砾.根据土工试验规程进行重型击实试验,分别按照掺加圆砾比例为0%、20%、30%、40%、45%和55%开展试验.研究结果表明:改良试样的最大干密度从1.84g·cm-3提高到2.05g·cm-3,最优含水量从18.76%降低到11.32%;对改良试样进行膨胀量试验,掺加圆砾比例为45%时膨胀性改良效果最好,浸水膨胀达到稳定的时间约为600min.而未掺加圆砾的试样在2 160min还未达到膨胀稳定状态. 相似文献