二次电压对AZ91D镁合金微弧氧化封孔的影响

目的提高镁合金微弧氧化膜层的耐蚀性。方法在锆盐体系电解液中对AZ91D镁合金进行微弧氧化处理,通过调节二次电压对AZ91D镁合金微弧氧化膜层的孔隙进行封闭,采用XRD、SEM和电化学测试分别对微弧氧化膜层的物相、表面形貌和耐蚀性进行了研究。结果二次电压对膜层的相成分没有影响,主要相组成为MgO、MgF_2、ZrO_2、Mg_2Zr_5O_(12)。随着二次电压的升高,膜层表面放电微孔孔径先减小后增大,孔隙率先降低后升高。与没有二次电压相比,施加二次电压的腐蚀电流降低2~3个数量级,极化电阻升高1~2个数量级,耐蚀性明显提高,且当二次电压为160 V时,膜层的极化电阻最高,耐蚀性最好。结论二次电压能够对AZ91D镁合金微弧氧化膜层的孔隙进行封闭,进而阻止腐蚀液通过微孔进入基体,提高膜层的耐蚀性。     

铝合金表面MoS2/Al2O3复合涂层制备及减摩性能研究

铝合金表面减摩涂层设计和制备是改善铝合金构件摩擦性能的关键技术之一。对于目前铝合金结构件易磨损的问题,本研究采用微弧氧化一步法在6063铝合金表面原位合成纳米MoS2,制备具有减摩作用的MoS2/Al2O3复合陶瓷涂层;讨论了硫盐浓度对涂层成分、形貌及摩擦性能的影响,分析了涂层减摩机理。结果表明：通过微弧氧化在6063铝合金表面成功制备出了含有MoS2的自润滑复合陶瓷涂层;涂层的摩擦系数随着硫盐浓度的升高呈现先下降后上升的趋势,当电解液中硫盐浓度为15g/L时涂层的摩擦系数为0.15,较常规微弧氧化涂层降低了76%。涂层中的MoS2分布在涂层的表面和内部,在与摩擦副接触与挤压的作用下形成均匀分布的MoS2润滑膜,表现出良好的减摩性能。     

温度对AZ91D镁合金化学镀镍层结构和耐蚀性能的影响

针对AZ91D镁合金,采用酸性化学镀液体系进行化学镀镍,研究了化学镀温度对镀层表面形貌和截面结构的影响,讨论了不同镀液温度下表面形貌的演变过程及镀层的耐蚀性能。结果表明:温度对膜层结构和成分影响较大,温度越高,镀层表面越均匀、致密,且相同时间内获得的镀层厚度越厚,但研究中超过90℃时镀层表面及膜基界面均出现了较多孔洞;80℃时镀层含磷量达到峰值。由于温度影响了镀层结构和成分,最终导致了镀层耐蚀性的差异,80℃时镀层耐蚀性最好。     

预处理工艺对TC4合金铜镀层结构和镀层结合力的影响

采用硫酸铜无氰镀铜技术在TC4钛合金表面制备铜镀层,研究了预处理(包括活化和预镀)对镀层结构、成分及镀层结合力的影响,分析了镀层形成过程及断裂特征,讨论了镀层断裂机理。结果表明:活化形成了氢化物转化膜,产生封闭效应,抑制了镀层形成过程中氧渗透和扩散,膜层均匀致密,镀层结合力较未活化处理明显提高。活化预镀Ni后形成了Cu/Ni/Ti多层结构,Ti/Ni膜层间易于形成冶金结合,增加了界面稳定性,所得镀层结合力较好。分析表明:活化预镀处理后,断裂产生于Cu/Ni界面,表明经活化后钛合金基体与镀层结合力可靠。     

硬质合金的断裂韧性及其无损评估

用X射线衍射相分析、扫描电镜,Palmqvist压痕试验和磁性分析对烧结态两相WC-Co硬质合金断裂韧性Klc的研究表明,在两相区碳成分范围内,随合金碳含量的变化,合金的Klc(Mpam     

Ti14Cu合金的定向凝固组织及相研究

研究了100、500、1000μm/s三种抽拉速率下Ti14Cu合金的定向凝固组织演变,通过光学显微镜和扫描电镜观察微观形貌,通过X射线衍射仪测定定向凝固组织中的相。结果表明,随着抽拉速率的提高,柱状晶组织变细且数量增多,枝晶间距减小而枝晶间隙的第二相析出物量增加。当合金成分及温度梯度一定时,二次枝晶间距与抽拉速率成反比。二次枝晶间距的Furer-Wunderlin模拟结果与试验测定的数据相吻合。     

半绝缘SiC单晶电阻率均匀性研究

采用非接触电阻率面分布(COREMA)方法对本实验室生长得到的2英寸(50 mm)4H和6H晶型半绝缘SiC单晶片进行电阻率测试,结果发现数据的离散性大,低者低于测试系统下限105Ω.cm,高者高于其上限1012Ω.cm,甚至在同一晶片内会出现小于105Ω.cm,105~1012Ω.cm和大于1012Ω.cm的不同区域,而有的晶片则电阻率的均匀性较好。将SiC电阻率测试结果与二次离子质谱(SIMS)对晶体内主要杂质V,B和N含量测试结果相结合,初步探讨得到引起掺钒SiC单晶电阻率的高低及均匀性的变化由补偿方式决定,在深受主补偿浅施主模式下,V的浓度控制在2×1016~3×1017cm-3,N的浓度控制在1×1016cm-3左右,深受主钒充分补偿浅施主氮,制备得到的SiC单晶具有半绝缘性,且电阻率均匀性好。     

大口径真空井的应用

真空井，又叫井泵真空对口抽，简称对口抽。真空并故名思义是把井管和水泵进水管口拼接密封成整体，排出井内空气，形成真空负压，缩短水泵吸程，增加出水量，达到扩大单井灌溉面积的目的．所谓大口经真空井是指流量大于200立方米/小、时、井径在200毫米以上的机电井．一般适宜在地下水埋藏较浅且资源丰富，属第四纪松散砂砾层，渗透系数大、补给条件好、蓄水性强、地下水位满足所配水泵最大吸程（要求6～8米）的地方推广应用．根据理论计算和实践经验选配离心泵比较合理，可供选择离心泵型有8B系列及10Sh系列，系数范围如下表：井管材料选…