La2/3Sr1/3MnO3薄膜的外场诱导电阻变化特性

分别采用固相反应技术和脉冲激光沉积的方法制备了La2/3Sr1/3MnO3靶材和薄膜,并研究了磁场、激光和电流等外场诱导下的薄膜电阻变化特性.结果表明,在铁磁金属相,激光辐照诱导薄膜电阻增大,而电流和磁场作用相似,均诱导薄膜电阻减小,这一现象可归结于不同外场通过改变体系中eg电子的自旋状态而影响体系的输运过程,引起电阻的变化.在顺磁绝缘相,利用小极化子模型进行了分析讨论,表明外场诱导电阻减小主要是由于外场作用使小极化子退局域化.     

二氯苯同分异构体及1,2,4—三氯苯体系固液平衡测定

本文利用差式扫描量热法,测定了邻二氯苯/间二氯苯、间二氯苯/对二氯苯、1,2,4-三氯苯/邻二氯苯、1,2,4-三氯苯/间二氯苯和1、2、4-三氯苯/对二氯苯等5个二元物系的固液平衡关系,并按以下方程进行了数据拟合: T=T_m~*[1+sum from j=1 to n a_j(x_1-x_1~*)~j]式中,T_m~*为纯物质的熔点,x_1~*为T_m~*下组分1的摩尔分率,a_j为拟合系数。通过按不同比例配制的邻、间、对二氯苯以及1,2,4-三氯苯拟二元相图,测出了下列物系三元固液平衡温度-组成关系:邻二氯苯/间二氯苯/对二氯苯、邻二氯苯/对二氯苯/1,2,4-三氯苯和邻二氯苯/间二氯苯/1,2,4-三氯苯。     

固-液平衡计算的进展

本文介绍了如何由气—液平衡、混合热、状态方程以及由基团贡献法,预计固—液平衡关系。文中所述及的方法,适用于简单低共熔体系。     

Lao.5Sro.5MnO3薄膜的输运特性和光诱导效应

用磁控溅射方法制备了La0.5Sro 5MnO3薄膜,研究了薄膜的输运特性和光诱导效应.La0.5Sr0 5MnO3薄膜具有温度相变特征:低温为铁磁金属相,高温则为顺磁非导体相,相变温度420 K.为铁磁金属相时,光诱导效应导致薄膜的电阻增大,在360 K电阻变化相对值的最大值约为9.62%.根据双交换作用模型,激光导致顺磁非导体相小极化子的浓度增加,使电阻减小.     

固液平衡研究—利用拓扑指标关联活度系数

本文利用表征分子特性的拓扑指标3ξ,关联二元溶液活度系数。得出: 1.v_i=l_n (θ_i)/(sum from j=1 to 2(1/j)θ_j x_j)+1-(θ_i)/(sum from j=1 to 2(1/j)θ_j x_j)+K[((θ_x)≠i)/(sum from j=1 to 2(1/j)θ_j x_j)]~2 ·θ_i/RT K为通过实验确定的参数。利用上式,计算了27种二元低共熔物系的固液平衡(t-x)关系,得到令人满意的结果。     

青霉素G钾/钠在含乙酸丁酯混合溶剂中的溶解度

测定了青霉素G钾在乙酸丁酯与水混合溶剂100mL中,其中含水0．6mL至9．0mL,温度为23.5℃、46．7℃和52．0℃时的溶解度;以及青素霉G钾和钠在含乙酸丁酯、水、乙酸和乙醇等几个特定组成溶剂中,温度范围27．0至50．0℃的溶解度。试验结果可用于青霉素G钾或青霉素G钠结晶过程。     

Sm_(0.5)Ca_(0.5)MnO_3薄膜的光诱导弛豫特性(英文)

采用射频磁控溅射方法在LaAlO3（100）基片上制备了电荷有序态锰氧化物Sm0．5Ca0.5MnO3薄膜,X射线衍射分析表明所制备薄膜具有较好的外延特性。测试了薄膜的低电阻-温度关系,表明薄膜在测量温度范围内呈现半导体导电特性。施加磁场和激光辐照均可引起电荷有序态的退局域化,从而导致电阻减小。研究了激光诱导电阻变化弛豫特性,表明电阻随时间的变化符合指数关系,通过拟合得到的时间常数随着温度的升高而增加,分析表明其主要可归结于外在热效应的影响。     

Sm0.5Ca0.5Mn03薄膜的光诱导弛豫特性

采用射频磁控溅射方法在LaAlO3(100)基片上制备了电荷有序态锰氧化物Sm0.5Ca0.sMnO3薄膜,X射线衍射分析表明所制备薄膜具有较好的外延特性.测试了薄膜的低电阻-温度关系,表明薄膜在测量温度范围内呈现半导体导电特性.施加磁场和激光辐照均可引起电荷有序态的退局域化,从而导致电阻减小.研究了激光诱导电阻变化弛豫特性,表明电阻随时问的变化符合指数关系,通过拟合得到的时间常数随着温度的升高而增加,分析表明其主要可归结于外在热效应的影响.     

n型掺杂BaSnO3的电子结构和光学性能的第一性原理研究

基于密度泛函理论,从头计算了La以及Nb掺杂BaSnO3的稳定性、电子结构和光学性质。结果表明La以及Nb掺杂BaSnO3体系结构稳定,均为n型导电材料,在可见光区透过率大于80%,且La以及Nb掺杂BaSnO3明显改善了体系的导电性。计算结果为实验制备n型BaSnO3基透明导电材料提供了理论指导。     

脉冲激光沉积(PLD)的研究动态与新发展

介绍了脉冲激光沉积薄膜技术的原理、特点,详细探讨了脉冲激光沉积的研究动态和发展趋势.大量研究表明,PLD技术是目前制备薄膜的最好方法之一.